[發明專利]遮光膜用感光性樹脂組合物、顯示器用基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201710201878.5
• 申請日: 2017-03-30
• 公開（公告）號: CN107272341B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 東學
• 申請（專利權）人: 日鐵化學材料株式會社
• 主分類號: G03F7/028
• 分類號: G03F7/028;G02B5/20
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 彭雪瑞;臧建明

1.一種遮光膜用感光性樹脂組合物，其特征在于含有下述(A)成分～(E)成分作為必需成分，

(A)具有環氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物的結構的含聚合性不飽和基的堿溶性樹脂，

(B)具有至少三個乙烯性不飽和鍵的光聚合性單體，

(C)肟酯系聚合引發劑，

(D)偶氮系聚合引發劑，其中所述偶氮系聚合引發劑為1,1'-偶氮雙(1-乙酰氧基-1-苯基乙烷)，以及

(E)選自由黑色有機顏料、混色有機顏料及遮光材料所組成的群組中的一種以上的遮光成分。

2.根據權利要求1所述的遮光膜用感光性樹脂組合物，其中所述(A)成分的含聚合性不飽和基的堿溶性樹脂是由下述通式(II)所表示，

式中，R₁、R₂、R₃及R₄分別獨立地表示氫原子、碳數1～5的烷基、鹵素原子或苯基，R₅表示氫原子或甲基，A表示-CO-、-SO₂-、-C(CF₃)₂-、-Si(CH₃)₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-O-、芴-9,9-二基或直接鍵合，X表示四價羧酸殘基，Y₁及Y₂分別獨立地表示氫原子或-OC-Z-(COOH)_m其中-OC-Z-(COOH)_m的Z表示二價羧酸殘基或三價羧酸殘基，m表示1或2的數，n表示1～20的整數。

3.根據權利要求1或2所述的遮光膜用感光性樹脂組合物，其中所述(A)成分與(B)成分的質量比例(A)/(B)為50/50～90/10，相對于所述(A)成分與(B)成分的合計100質量份，(C)成分為2質量份～30質量份并且(D)成分為1質量份～20質量份，在包含通過遮光膜用感光性樹脂組合物的光硬化而成為固體成分的成分的固體成分中含有40質量％～70質量％的(E)成分。

4.根據權利要求1或2所述的遮光膜用感光性樹脂組合物，其中(E)成分為碳黑。

5.一種顯示器用基板，其為在耐熱溫度為160℃以下的基板上具備遮光膜的顯示器用基板，

所述遮光膜是使含有下述(A)成分～(E)成分作為必需成分的遮光膜用感光性樹脂組合物硬化而成，

(A)具有環氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物的結構的含聚合性不飽和基的堿溶性樹脂，

(B)具有至少三個乙烯性不飽和鍵的光聚合性單體，

(C)肟酯系聚合引發劑，

(D)偶氮系聚合引發劑，其中所述偶氮系聚合引發劑為1,1'-偶氮雙(1-乙酰氧基-1-苯基乙烷)，以及

(E)選自由黑色有機顏料、混色有機顏料及遮光材料所組成的群組中的一種以上的遮光成分。

6.一種顯示器用基板的制造方法，其為在耐熱溫度為160℃以下的基板上具備遮光膜的顯示器用基板的制造方法，

將含有下述(A)成分～(E)成分作為必需成分的遮光膜用感光性樹脂組合物涂布到基板上，隔著光罩進行曝光，通過顯影將未曝光部除去，然后在160℃以下進行加熱而形成具備既定圖案的遮光膜，

(A)具有環氧(甲基)丙烯酸酯酸加成物的結構的含聚合性不飽和基的堿溶性樹脂，

(B)具有至少三個乙烯性不飽和鍵的光聚合性單體，

(C)肟酯系聚合引發劑，

(D)偶氮系聚合引發劑，其中所述偶氮系聚合引發劑為1,1'-偶氮雙(1-乙酰氧基-1-苯基乙烷)，以及

(E)選自由黑色有機顏料、混色有機顏料及遮光材料所組成的群組中的一種以上的遮光成分。