[發(fā)明專利]多重反射型單元和分析裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710195847.3
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN107389583B
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 赤松武;中嶋嘉之
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/3504
• 分類號: G01N21/3504;G01N21/01
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 鹿屹;李雪春

1.一種多重反射型單元，將入射的光多重反射后向外部射出，所述多重反射型單元的特征在于，包括：

單元主體，形成被導(dǎo)入試樣的單元室；

兩個以上的反射構(gòu)件，安裝在所述單元主體上，反射面位于所述單元室中；以及

位置調(diào)整機構(gòu)，相對于所述單元主體調(diào)整所述反射構(gòu)件的位置，

所述單元主體將所述單元室和外部連通，并具有用于安裝所述反射構(gòu)件的安裝部，

在安裝在所述安裝部上的反射構(gòu)件和所述單元主體之間設(shè)有將所述單元室與所述單元主體的外部之間封閉的密封構(gòu)件，

所述位置調(diào)整機構(gòu)設(shè)在所述單元室的外部，

所述反射構(gòu)件呈前端面具有反射面的形狀，

所述安裝部具有與所述反射構(gòu)件的外側(cè)周面相對的內(nèi)側(cè)周面，

所述密封構(gòu)件將所述反射構(gòu)件的外側(cè)周面與所述安裝部的內(nèi)側(cè)周面之間氣密密封。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多重反射型單元，其特征在于，所述位置調(diào)整機構(gòu)在通過所述密封構(gòu)件的可動范圍內(nèi)調(diào)整所述反射構(gòu)件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多重反射型單元，其特征在于，所述安裝部沿相對于所述單元主體的所述反射構(gòu)件的安裝角度傾斜設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多重反射型單元，其特征在于，

具有三個反射構(gòu)件，

作為一個反射構(gòu)件的第一反射構(gòu)件與作為其余的兩個反射構(gòu)件的第二反射構(gòu)件彼此相對配置，

所述兩個第二反射構(gòu)件相對于包含所述第一反射構(gòu)件的光軸的面、對稱配置，它們的光軸朝向所述第一反射構(gòu)件向彼此靠近的方向傾斜，

所述第二反射構(gòu)件能由所述位置調(diào)整機構(gòu)調(diào)整位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多重反射型單元，其特征在于，

所述反射構(gòu)件呈圓筒形狀，

所述安裝部的所述內(nèi)側(cè)周面呈圓形斷面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多重反射型單元，其特征在于，所述位置調(diào)整機構(gòu)面向所述單元主體的外部設(shè)置。

7.一種分析裝置，具備權(quán)利要求1至6中任一項所述的多重反射型單元。