[發明專利]一種檢測噻吩磺隆的Fe3O4@PEG@SiO2人工抗體的制備方法有效
| 申請號: | 201710185685.5 | 申請日: | 2017-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN106970215B | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發明(設計)人: | 漆天瑤;高大明;陳紅;汪叢;孫虹;張慧;朱德春;席小倩;周楊群;張凌云;劉安求;王曉晨 | 申請(專利權)人: | 合肥學院 |
| 主分類號: | G01N33/531 | 分類號: | G01N33/531;G01N21/33;B01J20/26;B01J20/30;B01J20/28 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 噻吩 fe3o4 peg sio2 人工 抗體 制備 方法 | ||
一種檢測噻吩磺隆的Fe3O4@PEG@SiO2人工抗體的制備方法,包括在Fe3O4磁性納米粒子的表面修飾聚乙二醇2000,表面包覆SiO2殼層,形成芯?殼?殼結構,通過洗脫位于SiO2殼層中的印記分子,形成具有與印記分子結構、大小和功能基互補的特異性識別位點空穴,實現對目標分析物分子選擇性識別和檢測。所述的人工抗體制備過程包括如下三個步驟:首先,制得Fe3O4磁性納米粒子并在其表面修飾聚乙二醇;然后,加入目標分子噻吩磺隆、交聯劑和催化劑,水解得表面印記噻吩磺隆的Fe3O4@PEG@SiO2粒子;最后,用體積比為1:4的乙酸和丙酮混合液洗脫模板分子,得到具有選擇性識別印記分子的Fe3O4@PEG@SiO2人工抗體,其對噻吩磺隆的最大飽和結合量為41.28mg/g,前30min內,其吸附速率為0.45mg/g·min,分別是非印記方法的5.34倍和3.46倍。
技術領域
本發明涉及材料科學領域,特別涉及人工抗體的制備及其表面印記對噻吩磺隆檢測方法。
背景技術
噻吩磺隆(thifensulfuron methyl)是一種磺酰脲類除草劑,因具有較高的除草性能而被廣泛用于田間雜草的去除工作。但其在農產品和環境中的殘留能給人類健康帶來危害,同時造成環境污染。殘留在農產品和環境中噻吩磺隆,如何快速、選擇性的檢測噻吩磺隆殘留,是一項挑戰性的難題。因此,如何快速、準確地對噻吩磺隆進行的檢測,成為目前迫切需要解決的問題。
分子印記技術(molecular imprinting technique,MIT)是一種利用分子印記聚合物(molecular imprinting polymers,MIPs)模擬酶-底物或抗體-抗原之間的相互作用,對印記分子(imprinting molecular)也稱模板分子(template molecular)進行專一識別的技術。近年來隨著高分子化學、材料科學、化學工程及生物化學等交叉學科快速發展,推進了分子印記技術快速發展,主要表現在人工合成分子印記材料(人工抗體)同天然抗體相比,更具有構效預定性、特異識別性和廣泛實用性等主要優點。
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