[發明專利]真空蒸鍍掩膜、掩膜制備方法以及蒸鍍圖案有效
| 申請號： | 201710179451.X | 申請日： | 2017-03-23 |
| 公開（公告）號： | CN106929797B | 公開（公告）日： | 2019-04-19 |
| 發明（設計）人： | 石守磊 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 趙天月 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 真空 蒸鍍掩膜 制備 方法 以及 圖案 | ||
【權利要求書】：
1.一種蒸鍍掩膜，其特征在于，包括：
掩膜基體，所述掩膜基體具有掩膜鏤空圖案；以及
固定件，所述固定件設置在所述掩膜基體的表面上，所述固定件包括聚二甲基硅氧烷、硫化硅橡膠以及硅烷偶聯劑的至少之一，或者，所述固定件包括連接端以及游離端，所述連接端與所述掩膜基體之間通過共價鍵連接，所述游離端與所述連接端相連，所述游離端含有硅氧烷官能團。
2.一種制備權利要求1所述的蒸鍍掩膜的方法，其特征在于，包括：
在掩膜基體表面形成固定件，以便獲得所述蒸鍍掩膜。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在掩膜基體表面形成所述固定件包括：
在所述掩膜基體表面形成固定件預聚體，并固化所述固定件預聚體以便形成所述固定件。
4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在掩膜基體表面形成所述固定件包括：采用分子自組裝方法，在所述掩膜基體表面形成連接端，以及與所述連接端相連的游離端，
其中，所述連接端與所述掩膜基體以共價鍵連接，所述游離端含有硅氧烷官能團。
5.一種真空蒸鍍方法，其特征在于，包括：
利用權利要求1所述的蒸鍍掩膜，在蒸鍍基板上形成蒸鍍圖案。
6.一種蒸鍍圖案，其特征在于，是利用權利要求5所述的方法制備的。
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