[發(fā)明專利]微弧氧化不粘鍋及其制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710166632.9 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107115005A | 公開(公告)日: | 2017-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方承勇;瞿義生;金偉平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢蘇泊爾炊具有限公司 |
| 主分類號(hào): | A47J27/00 | 分類號(hào): | A47J27/00;A47J36/04;C25D15/00;C25D11/02 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11240 | 代理人: | 趙囡囡,梁文惠 |
| 地址: | 430051 湖*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氧化 不粘鍋 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及廚具領(lǐng)域,具體而言,涉及一種微弧氧化不粘鍋及其制備方法。
背景技術(shù)
市面上的不粘鍋多是在基體上噴涂聚四氟乙烯(PTFE)涂料和/或陶瓷涂料(硅溶膠凝膠),從而在基體上形成一層不粘涂層。這種涂料形成的涂層強(qiáng)度不高,不能使用硬度較高的工具例如鐵鏟來烹飪,而且使用一段時(shí)間后,涂層也容易出現(xiàn)劃傷和脫落,影響產(chǎn)品性能。
現(xiàn)有技術(shù)中也有通過在鍋體底部設(shè)置凹凸紋路,以減少食物與鍋底的接觸來實(shí)現(xiàn)不粘的效果。由于這種方式的鍋具沒有涂層,因此可以使用鐵鏟。但是,這種使用凹凸紋路吸油性能有限,且凹凸紋里容易殘留食物殘?jiān)灰浊逑础?/p>
總體來說,目前的不粘鍋普通存在不粘層硬度和耐磨性不好,或不符合食品安全需求的缺陷,現(xiàn)有技術(shù)中缺乏硬度和耐磨性好、膜層成分結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、安全無毒的不粘涂層。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種微弧氧化不粘鍋及其制備方法,以解決現(xiàn)有技術(shù)中不粘鍋的不粘性能不足的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種微弧氧化不粘鍋,包括:鍋體基材層;微弧氧化膜層,設(shè)置在鍋體基材層上,微弧氧化膜層中設(shè)置有固體潤(rùn)滑顆粒。
進(jìn)一步地,上述固體潤(rùn)滑顆粒為石墨顆粒,優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5~0.9μm。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化膜層的遠(yuǎn)離鍋體基材層的部分為第一微弧氧化膜層,第一微弧氧化膜層的孔隙率為5~30%,優(yōu)選第一微弧氧化膜層的微孔孔徑在3~10μm之間。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化膜層的厚度為30~100μm,優(yōu)選第一微弧氧化膜層的厚度為微弧氧化膜層厚度的20~40%。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種微弧氧化不粘鍋的制備方法,該制備方法包括:提供具有固體潤(rùn)滑顆粒的電解液;利用電解液對(duì)鍋體基材層進(jìn)行微弧氧化,在鍋體基材層上形成具有固體潤(rùn)滑顆粒的微弧氧化膜層。
進(jìn)一步地,上述固體潤(rùn)滑顆粒為石墨顆粒,優(yōu)選石墨顆粒的粒徑為0.5~0.9μm,進(jìn)一步優(yōu)選電解液中固體潤(rùn)滑顆粒的含量為5g/L~25g/L。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化過程中,控制電源的正負(fù)脈沖占空比為10~50%。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化過程中,控制電源的頻率為200~800Hz。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化過程中,控制電源的正向脈沖為300~700V,負(fù)向脈沖為80~100V。
進(jìn)一步地,上述微弧氧化過程中,控制電源的電流密度為3~4A/dm2。
應(yīng)用本發(fā)明的技術(shù)方案,通過在微弧氧化膜層中設(shè)置固體潤(rùn)滑顆粒,使微弧氧化膜層形成自潤(rùn)滑復(fù)合膜層,基于該固體潤(rùn)滑顆粒的存在,該膜層不僅具有很好的不粘性能,而且不會(huì)隨著膜層的磨損使性能下降,反而具有很好的持久不粘性。同時(shí),由于微弧氧化膜層是在基材原位生長(zhǎng)的膜層,膜層與鍋體基材層的結(jié)合屬于冶金結(jié)合,結(jié)合強(qiáng)度高,烹飪過程中不會(huì)因外力劃擦而損傷脫落,也不會(huì)因?yàn)闊崦浝淇s而引起膜層脫落。
附圖說明
構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分的說明書附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施方式提供的微弧氧化不粘鍋的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施方式提供的微弧氧化不粘鍋的部分結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3A示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的致密層的放大8000倍掃描電鏡圖;
圖3B示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的致密層的放大20000倍掃描電鏡圖;
圖4A示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的疏松層的放大8000倍掃描電鏡圖;
圖4B示出了根據(jù)本發(fā)明一種優(yōu)選實(shí)施例提供的微弧氧化膜層的疏松層的放大20000倍掃描電鏡圖;
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例1提供的不粘鍋的掃描電鏡圖;以及
圖6示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例22提供的不粘鍋的掃描電鏡圖。
其中,上述附圖包括以下附圖標(biāo)記:
10、鍋體基材層;20、微弧氧化膜層;21、致密層;22、疏松層。
具體實(shí)施方式
需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。
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