[發(fā)明專利]一種光罩及清潔裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710165797.4 | 申請日: | 2017-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN106842811A | 公開(公告)日: | 2017-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張瑞軍;莫超德;范志翔;盧馬才;蔡小龍 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/38 | 分類號: | G03F1/38;G03F1/82 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11372 | 代理人: | 吳大建 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清潔 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種光罩及清潔裝置。
背景技術(shù)
在薄膜晶體管液晶顯示器的黃光曝光制程中,目前采用光罩對電路圖形進行定義,若光罩上有異物,可能造成曝光時異物區(qū)域光路無法通過,出現(xiàn)圖形異常。目前,光罩使用過程中,在上下機臺后需要人員手動使用風(fēng)槍,對光罩表面進行吹拭,以達到對光罩表面異物清潔的目的。
但是人員手動使用風(fēng)槍吹風(fēng),效率低下,單次清潔需要10分鐘以上。人員使用風(fēng)槍對光罩進行清潔,需要嚴(yán)格控制風(fēng)槍吹風(fēng)大小及吹風(fēng)角度,若吹風(fēng)強度大將可能導(dǎo)致光罩表面膜層吹破,造成光罩報廢。
發(fā)明內(nèi)容
針對上述問題中存在的不足之處,本發(fā)明提供一種光罩及清潔裝置。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種光罩,包括:
石英玻璃板、透明導(dǎo)電膜、半透明膜和金屬框;其中,
在所述石英玻璃板的下面設(shè)有所述金屬框,所述半透明膜設(shè)置在所述金屬框的下端,在所述石英玻璃板的上面和所述半透明膜的下面均設(shè)有所述透明導(dǎo)電膜。
上述的光罩,在所述石英玻璃板與所述金屬框之間設(shè)有遮光膜。
上述的光罩,所述遮光膜與所述金屬框通過黏著劑連接。
上述的光罩,所述遮光膜為多塊間隔設(shè)置。
上述的光罩,在兩側(cè)的所述遮光膜邊緣處設(shè)有夾持部。
一種清潔裝置,包括:帶有正極電極的上清潔板和下清潔板用于清潔所述光罩表面異物,所述上清潔板和所述下清潔板尺寸相同。
上述的清潔裝置,所述上清潔板和所述下清潔板對稱設(shè)置,所述上清潔板和所述下清潔板之間距離為10毫米,所述上清潔板和所述下清潔板為金屬材質(zhì)。
上述的清潔裝置,還包括絕緣夾具用于夾持所述光罩。
上述的清潔裝置,還包括導(dǎo)電針用于對所述透明導(dǎo)電膜導(dǎo)電。
上述的清潔裝置,還包括設(shè)置在所述上清潔板一側(cè)或所述下清潔板一側(cè)的去離子裝置用于去除所述光罩表面殘留靜電。
在上述技術(shù)方案中,本發(fā)明提供的光罩和清潔裝置,與現(xiàn)有技術(shù)相比,通過在光罩表面設(shè)置透明導(dǎo)電膜,對透明導(dǎo)電膜通電,使得掉落在光罩上的異物帶電;再通過光罩清潔裝置,通過相反電性的上清潔板和下清潔板吸附異物,達到對光罩表面異物潔凈方便快捷的效果。
附圖說明
在下文中將基于實施例并參考附圖來對本發(fā)明進行更詳細(xì)的描述。
圖1為本申請的一個實施例中光罩的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本申請的一個實施例中光罩的準(zhǔn)備清潔前狀態(tài)圖。
圖3為本申請的一個實施例中清潔裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為本申請的一個實施例中清潔裝置對光罩進行清潔的狀態(tài)圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進一步說明。
如圖1所示,示意性地顯示了該光罩1,包括:石英玻璃板12、透明導(dǎo)電膜11、半透明膜15和金屬框16;其中,
在石英玻璃板12的下面設(shè)有金屬框16,半透明膜15設(shè)置在金屬框16的下端,在石英玻璃板12的上面和半透明膜15的下面均設(shè)有透明導(dǎo)電膜11。
通過在光罩1表面設(shè)置透明導(dǎo)電膜11,對透明導(dǎo)電膜11通電,使得掉落在光罩1上的異物20帶電,并通過清潔裝置將異物清除,清除異物效果好,不會產(chǎn)生遺漏。避免造成曝光時異物區(qū)域光路無法通過,出現(xiàn)圖形異常的問題。
特別是,在該光罩表面沉積一層透明導(dǎo)電膜11,透明導(dǎo)電膜11為ITO或有機材料等,通過PVD、CVD、涂膠設(shè)備等進行成膜,透明導(dǎo)電膜11厚度可根據(jù)實際工藝設(shè)計為
在一個優(yōu)選的實施例中,還包括設(shè)置在石英玻璃板11下面的遮光膜13,遮光膜13為多塊間隔設(shè)置。遮光膜13的作用使光源能通過遮光膜13均勻顯示,使光照射的強度在控制范圍之內(nèi)。使用遮光膜13是用來調(diào)節(jié)和優(yōu)化電子顯示器中光達到致密和均勻,遮光膜13的功能不止是讓顯示光線達到致密和均勻而已。因為使用不同的材質(zhì)制作所以不同材質(zhì)的遮光膜13功能也是大同小異。遮光膜13具有導(dǎo)熱、緩沖、背光、防水、耐摩擦等功能和特點。
在一個優(yōu)選的實施例中,遮光膜13與金屬框14通過黏著劑連接,使用粘著劑粘結(jié)效果好,不易脫離。
在一個優(yōu)選的實施例中,在兩側(cè)的遮光膜13邊緣處設(shè)有絕緣夾具40夾持部16。便于夾持,操作方便。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





