[發明專利]曝光裝置、器件制造方法

有效

• 申請號: 201710164773.7
• 申請日: 2004-07-26
• 公開（公告）號: CN106707699B
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發明（設計）人: 馬込伸貴;小林直行
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李今子

1.一種曝光裝置，透過液體對基板照射曝光用光以使該基板曝光，其特征在于，具備：

投影光學系統，將像透過液體投影；

可動構件，支承該基板并移動；

液體供應機構，從該可動構件的上方透過供應口對該投影光學系統下供應液體；以及

液體回收機構，從該可動構件的上方透過吸引口將該供應的液體與氣體一起回收；

該液體回收機構具有收容從該吸引口回收且與氣體分離的液體的箱、及檢測收容在該箱的液體的量的檢測器。

2.如權利要求1所述的曝光裝置，其中，在該箱的下部連接有使液體從該箱流動的流路；

在該箱收容有既定量以上的液體時，設在該流路的閥作動使該流路開放。

3.一種曝光裝置，透過液體對基板照射曝光用光以使該基板曝光，其特征在于，具備：

投影光學系統，將圖案像透過該液體投影至該基板上；

吸引口，連通于吸引系統；

分離器，將從該吸引口吸入的所述液體與氣體分離；以及

干燥器，使被該分離器分離后的該氣體干燥。

4.如權利要求3所述的曝光裝置，其中，使由該干燥器干燥后的該氣體流入該吸引系統。

5.如權利要求3所述的曝光裝置，其中，該吸引口是為了回收液體而設置。

6.如權利要求3所述的曝光裝置，其具備：

液體供應機構，對該投影光學系統與所述基板之間供應液體；以及

液體回收機構，具備吸引口，回收該供應的液體。

7.如權利要求6所述的曝光裝置，其中，該液體供應機構，在檢測出異常時停止對該投影光學系統下的液體供應。

8.如權利要求7所述的曝光裝置，其中，該異常包含該液體回收機構的回收動作的異常。

9.如權利要求6所述的曝光裝置，其中，該液體回收機構具有將從該吸引口回收的液體與氣體分離的分離器、及將該分離器與該吸引系統加以連接的回收管；

該干燥器設在該回收管。

10.如權利要求6所述的曝光裝置，其中，該液體回收機構具有將從該吸引口回收的液體與氣體分離的分離器、及測量以該分離器分離的液體的量的流量計。

11.如權利要求3所述的曝光裝置，其具備可動構件，該可動構件具備吸引口，該可動構件支承該基板并移動。

12.如權利要求11所述的曝光裝置，其中，從該可動構件所支承的該基板與形成在該基板周圍的輔助板的間隙流入的液體從該吸引口被回收。

13.一種器件制造方法，包含使用權利要求1至12中任一項所述的曝光裝置使基板曝光的動作。