[發(fā)明專利]復(fù)合帶電粒子束裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710160447.9
• 申請(qǐng)日: 2017-03-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107204269A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-09-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大西毅;荷田昌克
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 日本株式會(huì)社日立高新技術(shù)科學(xué)
• 主分類號(hào): H01J37/22
• 分類號(hào): H01J37/22;H01J37/317
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 閆小龍,陳嵐

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及朝向利用聚焦離子束形成的樣品的剖面照射電子束來(lái)得到樣品的剖面像的復(fù)合帶電粒子束裝置。

背景技術(shù)

例如，作為對(duì)半導(dǎo)體器件等樣品的內(nèi)部構(gòu)造進(jìn)行解析或者進(jìn)行立體的觀察的手法之一，已知有進(jìn)行利用了聚焦離子束（Focused Ion Beam；FIB）的剖面形成加工（蝕刻加工）并且通過(guò)掃描型電子顯微鏡（Scanning Electron Microscope；SEM）掃描電子束（Electron Beam；EB）來(lái)得到樣品的剖面像的方法（例如，專利文獻(xiàn)1）。

該剖面加工觀察方法是利用了復(fù)合帶電粒子束裝置的被稱為切&看（Cut&See）的手法，具有能夠進(jìn)行樣品的剖面加工并進(jìn)行其剖面像的觀察這樣的、對(duì)于其他的方法沒(méi)有的優(yōu)點(diǎn)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2008-270073號(hào)公報(bào)。

發(fā)明要解決的課題

可是，在上述那樣的用于剖面加工觀察方法的復(fù)合帶電粒子束裝置中，存在電子束鏡筒由于利用聚焦離子束照射而從樣品飛散的濺射粒子而容易污損這樣的課題。即，在復(fù)合帶電粒子束裝置中，為了使照射的電子束性能的衰減變少，以與載置樣品的樣品臺(tái)接近的方式配置電子束鏡筒。因此，存在產(chǎn)生如下等問(wèn)題的擔(dān)憂：利用聚焦離子束的照射而從樣品飛散的濺射粒子容易附著于電子束鏡筒的物鏡等，由于所附著的濺射粒子引起充電現(xiàn)象而電子束的軌道彎曲或者焦點(diǎn)或像散發(fā)生變化。此外，也存在電極間的絕緣性降低的擔(dān)憂。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于前述的情況而完成的，其目的在于提供一種同時(shí)具備聚焦離子束鏡筒和電子束鏡筒的復(fù)合帶電粒子束裝置，所述復(fù)合帶電粒子束裝置能夠防止電子束鏡筒的污損并且高精度地照射電子束。

用于解決課題的方案

為了解決上述課題，本實(shí)施方式的若干個(gè)方式提供了以下那樣的復(fù)合帶電粒子束裝置。

即，本發(fā)明的復(fù)合帶電粒子束裝置的特征在于，具備：樣品臺(tái)，載置樣品；聚焦離子束鏡筒，向所述樣品照射聚焦離子束；電子束鏡筒，向所述樣品照射電子束；樣品室，收容所述樣品臺(tái)、所述聚焦離子束鏡筒和電子束鏡筒；防污板，以能在插入到所述電子束鏡筒的出射面與所述樣品臺(tái)之間的插入位置和從所述出射面與所述樣品臺(tái)之間退出后的敞開(kāi)位置之間移位的方式形成；以及操作單元，使所述防污板在所述插入位置和所述敞開(kāi)位置之間移位。

根據(jù)本實(shí)施方式的復(fù)合帶電粒子束裝置，在從聚焦離子束鏡筒照射聚焦離子束時(shí)，使防污板為插入位置，由此，為電子束鏡筒的出射面的前表面?zhèn)缺环牢郯甯采w的狀態(tài)。當(dāng)朝向樣品照射聚焦離子束時(shí)，濺射粒子從樣品飛散，朝向被配置在樣品的附近的電子束鏡筒也飛來(lái)許多濺射粒子。可是，由于電子束鏡筒的出射面的前表面?zhèn)缺环牢郯甯采w，所以沒(méi)有濺射粒子從電子束鏡筒的出射面進(jìn)入到內(nèi)部而附著于例如物鏡等這樣的情況。由此，能夠可靠地防止電子束鏡筒的內(nèi)部被飛來(lái)的濺射粒子污損的情況。

特征在于，所述防污板在所述插入位置處覆蓋所述電子束鏡筒的出射面的附近。

特征在于，所述操作單元形成在所述樣品室的外部。

特征在于，所述防污板由非磁性材料形成。

特征在于，所述防污板由帶狀的板簧材料構(gòu)成。

特征在于，所述防污板被對(duì)沿著長(zhǎng)尺寸方向的兩個(gè)側(cè)面及其附近進(jìn)行支承的支承構(gòu)件沿著長(zhǎng)尺寸方向滑動(dòng)自由地支承，該支承構(gòu)件配置在與所述電子束鏡筒的出射面重疊的位置以外。

特征在于，所述防污板被配置為相對(duì)于長(zhǎng)尺寸方向?yàn)橹苯堑钠拭嫘纬苫睿谒霾迦胛恢锰帲瑑蓚€(gè)側(cè)端與中心部相比向所述電子束鏡筒的出射面?zhèn)韧怀觥?/p>

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，在同時(shí)具備聚焦離子束鏡筒和電子束鏡筒的復(fù)合帶電粒子束裝置中，能夠防止電子束鏡筒的污損并且高精度地照射電子束。

附圖說(shuō)明

圖1是示出實(shí)施方式的復(fù)合帶電粒子束裝置的概略結(jié)構(gòu)圖。

圖2是示出構(gòu)成鏡筒防污裝置的防污板和支承構(gòu)件的主要部分放大立體圖。

圖3是從背面?zhèn)扔^察支承構(gòu)件時(shí)的主要部分放大立體圖。

圖4是從電子束鏡筒的附近觀察防污板和支承構(gòu)件時(shí)的剖面圖。

圖5是從電子束鏡筒的附近觀察另一實(shí)施方式中的防污板和支承構(gòu)件時(shí)的剖面圖。

圖6是示出處于插入位置的防污板的狀態(tài)的主要部分示意圖。

圖7是示出處于敞開(kāi)位置的防污板的狀態(tài)的主要部分示意圖。

具體實(shí)施方式