[發(fā)明專利]半導(dǎo)體封裝及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710153204.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108335987B | 公開(公告)日: | 2020-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林柏均;朱金龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南亞科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/56 | 分類號(hào): | H01L21/56;H01L23/31 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 李昕巍;章侃銥 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 封裝 及其 制造 方法 | ||
1.一種半導(dǎo)體封裝,包括:
一半導(dǎo)體元件,具有一上表面與一側(cè),其中該上表面與該側(cè)形成該半導(dǎo)體元件的一角部;
一橫向凸塊結(jié)構(gòu),位于該側(cè)上并且實(shí)現(xiàn)該半導(dǎo)體元件的一橫向信號(hào)路徑,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第一延伸方向自該側(cè)延伸;以及
一垂直凸塊結(jié)構(gòu),位于該上表面上,該垂直凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第二延伸方向自該上表面延伸,
該第一延伸方向與該第二延伸方向垂直,
所述半導(dǎo)體封裝另包括一接墊,位于該側(cè)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)之間,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)位于該接墊上。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其中,所述垂直凸塊結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)該半導(dǎo)體元件的一垂直信號(hào)路徑,其中該垂直凸塊結(jié)構(gòu)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)分離。
3.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其中該橫向凸塊結(jié)構(gòu)自該側(cè)橫向延伸。
4.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝,其中該垂直凸塊結(jié)構(gòu)自該上表面垂直延伸。
5.一種半導(dǎo)體封裝,包括:
一第一半導(dǎo)體元件,具有一第一上表面與一第一側(cè),其中該第一上表面與該第一側(cè)形成該第一半導(dǎo)體元件的一第一角部;
一第二半導(dǎo)體元件,橫向相鄰于該第一半導(dǎo)體元件,其中該第二半導(dǎo)體元件包括一第二上表面與一第二側(cè),并且該第二上表面與該第二側(cè)形成該第二半導(dǎo)體元件的一第二角部;
一橫向凸塊結(jié)構(gòu),自該第一側(cè)延伸至該第二側(cè)并且于該第一半導(dǎo)體元件與該第二半導(dǎo)體元件之間實(shí)現(xiàn)一橫向信號(hào)路徑,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第一延伸方向延伸;
一第一垂直凸塊結(jié)構(gòu),位于該第一上表面上,該第一垂直凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第二延伸方向自該第一上表面延伸,
一第二垂直凸塊結(jié)構(gòu),位于該第二上表面上,該第二垂直凸塊結(jié)構(gòu)沿著所述第二延伸方向自該第二上表面延伸,
該第一延伸方向與該第二延伸方向垂直,
所述半導(dǎo)體封裝另包括一接墊,位于該第一側(cè)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)之間,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)位于該接墊上。
6.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體封裝,另包括:
一封裝件,環(huán)繞該第一半導(dǎo)體元件與該第二半導(dǎo)體元件,其中該封裝件的一中間部位于該第一半導(dǎo)體元件與該第二半導(dǎo)體元件之間;
其中該橫向凸塊結(jié)構(gòu)橫向延伸跨過(guò)該中間部。
7.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體封裝,其中該第一垂直凸塊結(jié)構(gòu)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)分離。
8.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體封裝,其中該第二垂直凸塊結(jié)構(gòu)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)分離。
9.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體封裝,其中該橫向凸塊結(jié)構(gòu)垂直延伸跨過(guò)該第一上表面與該第二上表面。
10.一種半導(dǎo)體封裝的制造方法,包括:
提供一半導(dǎo)體元件,具有一本體區(qū)以及與該本體區(qū)相鄰的一邊緣區(qū);
形成一凹部于該邊緣區(qū)中,其中該凹部暴露該本體區(qū)的一側(cè);
形成一橫向凸塊結(jié)構(gòu)于該凹部中,其中該橫向凸塊結(jié)構(gòu)形成于該側(cè)上并且實(shí)現(xiàn)該半導(dǎo)體元件的一橫向信號(hào)路徑,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第一延伸方向自該側(cè)延伸;以及
形成一垂直凸塊結(jié)構(gòu)于該半導(dǎo)體元件的一上表面上,該垂直凸塊結(jié)構(gòu)沿著一第二延伸方向自該上表面延伸,
該第一延伸方向與該第二延伸方向垂直,
在該側(cè)與該橫向凸塊結(jié)構(gòu)之間形成一接墊,該橫向凸塊結(jié)構(gòu)位于該接墊上。
11.如權(quán)利要求10所述的制造方法,包括:
形成一遮罩于該半導(dǎo)體元件的一上表面上,其中該遮罩具有一開孔,暴露該邊緣區(qū)的一部分;以及
進(jìn)行一蝕刻制程,以移除該開孔暴露的該邊緣區(qū)的一部分,形成該凹部。
12.如權(quán)利要求11所述的制造方法,另包括:
形成一凸塊材料于該凹部中;
移除該遮罩;以及
進(jìn)行一熱制程,以形成該橫向凸塊結(jié)構(gòu)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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