[發(fā)明專(zhuān)利]成膜裝置及成膜方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710148173.1
• 申請(qǐng)日: 2017-03-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107201503B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小野大祐
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 芝浦機(jī)械電子裝置株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/54
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/54;C23C14/34;C23C14/08
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 楊貝貝;臧建明

1.一種成膜裝置，對(duì)工件使用等離子體進(jìn)行成膜，其特征在于，包括：

密閉容器，配置著包含成膜材料的靶材，內(nèi)部被搬入所述工件；

排氣裝置，在所述工件的搬入后，將所述密閉容器排氣規(guī)定時(shí)間；

濺鍍氣體導(dǎo)入部，對(duì)經(jīng)所述排氣的所述密閉容器的內(nèi)部，導(dǎo)入含氧的濺鍍氣體；

壓力計(jì)，對(duì)基礎(chǔ)壓力進(jìn)行測(cè)量，所述基礎(chǔ)壓力為經(jīng)排氣所述規(guī)定時(shí)間后且導(dǎo)入所述濺鍍氣體之前的所述密閉容器內(nèi)的壓力；以及

控制裝置，控制所述濺鍍氣體導(dǎo)入部，

所述控制裝置包括存儲(chǔ)部以及氧分壓決定部，其中所述存儲(chǔ)部存儲(chǔ)最佳氧分壓的數(shù)據(jù)，所述最佳氧分壓的數(shù)據(jù)為所述濺鍍氣體中的氧分壓的最佳值；所述氧分壓決定部獲取由所述壓力計(jì)測(cè)定出的所述基礎(chǔ)壓力，參照所述最佳氧分壓的數(shù)據(jù)，而決定所述濺鍍氣體的氧分壓的值，

所述控制裝置根據(jù)所述基礎(chǔ)壓力的上升，以使所述氧分壓的值逐漸減少的方式，來(lái)控制所述濺鍍氣體導(dǎo)入部，其中所述基礎(chǔ)壓力的上升是隨著通過(guò)重復(fù)所述成膜使附著在所述密閉容器內(nèi)部的所述成膜材料增加而造成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于，包括：

電源裝置，對(duì)所述靶材施加電壓；

所述控制裝置根據(jù)基于從所述電源裝置供給到所述靶材的電力的累計(jì)量而決定的所述基礎(chǔ)壓力，來(lái)決定所述濺鍍氣體導(dǎo)入部導(dǎo)入的所述濺鍍氣體的氧分壓的值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，還包括警報(bào)生成部，所述警報(bào)生成部在所述基礎(chǔ)壓力超過(guò)6×10^-3Pa時(shí)生成警報(bào)。

4.一種成膜方法，對(duì)工件使用等離子體進(jìn)行成膜，其特征在于：

向配置著包含成膜材料的靶材的密閉容器的內(nèi)部搬入所述工件；

在所述工件的搬入后，將所述密閉容器排氣規(guī)定時(shí)間；

對(duì)經(jīng)所述排氣的所述密閉容器的內(nèi)部導(dǎo)入含氧的濺鍍氣體，

其中通過(guò)壓力計(jì)測(cè)量基礎(chǔ)壓力，所述基礎(chǔ)壓力為經(jīng)排氣所述規(guī)定時(shí)間后且導(dǎo)入所述濺鍍氣體前的壓力；以及

控制裝置預(yù)先存儲(chǔ)最佳氧分壓的數(shù)據(jù)，獲取由所述壓力計(jì)測(cè)定出的所述基礎(chǔ)壓力，參照所述最佳氧分壓的數(shù)據(jù)，來(lái)決定所述濺鍍氣體的氧分壓的值，而導(dǎo)入所述濺鍍氣體，其中所述最佳氧分壓的數(shù)據(jù)為所述濺鍍氣體中的氧分壓的最佳值，并且

所述控制裝置根據(jù)所述基礎(chǔ)壓力的上升，以使所述氧分壓的值逐漸減少的方式，來(lái)控制所述濺鍍氣體的導(dǎo)入，其中所述基礎(chǔ)壓力的上升是隨著通過(guò)重復(fù)所述成膜使附著在所述密閉容器內(nèi)部的所述成膜材料增加而造成。