[發明專利]用以執行等離子相關制造制程的系統在審
| 申請號： | 201710137506.0 | 申請日： | 2017-03-09 |
| 公開（公告）號： | CN108231517A | 公開（公告）日： | 2018-06-29 |
| 發明（設計）人： | 廖漢文 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 圓臺 分布機構 制程 可重新配置 處理腔室 底部電極 頂部電極 分布輪廓 腔室外部 處理腔 晶圓 制造 室內 統一 | ||
【權利要求書】：
1.一種用以執行等離子相關制造制程的系統，其特征在于，該系統包含：
一腔室；
位于該腔室內的一晶圓臺，該晶圓臺用以固定一處理晶圓；
位于該晶圓臺下方的一底部電極；
位于該腔室外部的一頂部電極；以及
一等離子分布機構，該等離子分布機構可重新配置以允許多于一個等離子分布輪廓。
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