[發(fā)明專利]用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜及制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710130873.8
• 申請日: 2017-03-07
• 公開（公告）號: CN106746738A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉戰(zhàn)合;田秋麗;王菁;任淑紅;趙輝;王曉璐
• 申請（專利權(quán)）人: 鄭州航空工業(yè)管理學(xué)院
• 主分類號: C03C17/42
• 分類號: C03C17/42
• 代理公司: 江蘇銀創(chuàng)律師事務(wù)所32242
• 代理人: 何紅梅

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及艦橋玻璃隱身薄膜制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜及制備方法。

背景技術(shù)

水面艦船(特別是未來軍用艦船)由于工作環(huán)境的不同，長期面臨濕度高、鹽分含量大等特殊環(huán)境，其艦橋玻璃應(yīng)包含四方面需求：一是應(yīng)適應(yīng)現(xiàn)代化艦船對雷達隱身的性能要求，提高艦船生存能力，二是應(yīng)可解決艦橋玻璃的耐腐蝕性能、延長壽命的需求，三是應(yīng)可解決執(zhí)行任務(wù)時艦船玻璃的防霧、易清潔問題，提高艦橋工作視覺舒適度，改善工作環(huán)境，四是應(yīng)保證足夠的可見光透過率，保證工作視覺需求。

在艦船實現(xiàn)了基本的外形隱身后，為進一步提高雷達隱身性能，有必要對艦船的艦橋玻璃進行特殊處理，以屏蔽雷達波的腔體散射，提高隱身性能，在玻璃外側(cè)涂覆隱身膜層，同時滿足采光需求，成為迫切需求；同時，艦船長期工作于外海、內(nèi)陸河等高濕氣環(huán)境下，特別是濕鹽環(huán)境，采用常規(guī)薄膜實現(xiàn)以上功能時，往往會帶來較低的壽命周期，因此，有必要提高薄膜的耐腐蝕性能，并提高薄膜使用壽命；在正常工作環(huán)境下，由于濕氣較大，溫度變化時，容易在玻璃內(nèi)側(cè)結(jié)霧或結(jié)露，嚴重影響工作狀態(tài)，同時，霧和露的出現(xiàn)，會對薄膜造成一定威脅，因此，結(jié)合使用狀態(tài)，同時采用電加熱膜層和疏水膜層實現(xiàn)防霧功能，同時疏水膜層的使用，大大提高了易清潔性，并滿足視野要求和艙內(nèi)采光需求；當然以上的需求提高，必須滿足高的透光率。同時，基于以上膜層的設(shè)計，也可以在一定程度上對紅外線、紫外線進行選擇性透過，實現(xiàn)節(jié)能需求，高紫外反射性能可以提高艦橋內(nèi)電子設(shè)備的壽命。

目前，缺乏一種具有隱身性能好的用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜及制備方法。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是針對上述問題，提供一種具有隱身性能好的用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜及制備方法。

為達到上述目的，本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案：本發(fā)明的一種用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜，所述用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜包括艦橋玻璃基底，所述艦橋玻璃基底上設(shè)置有A面和B面，所述A面和B面上分別設(shè)置有不同的功能膜系，A面為電加熱膜系，B面為隱身膜系；所述電加熱膜系由艦橋玻璃基底由內(nèi)向外依次為電加熱功能層和內(nèi)疏水膜層；所述隱身膜系由艦橋玻璃基底由內(nèi)向外依次為隱身功能膜層和外疏水膜層。

進一步地，所述A面向艦船艦橋玻璃內(nèi)為內(nèi)側(cè)，所述B面向艦船艦橋玻璃外為外側(cè)，所述電加熱功能層由內(nèi)向外依次為第一氧化硅層、第一氧化銦錫層、第一金屬金層和第二氧化銦錫層，所述第一氧化硅層的膜層的厚度為12～25nm，所述第一氧化銦錫層的膜層的厚度為30～60nm，所述第一金屬金層的膜層的厚度為8～10nm，所述第二氧化銦錫層的膜層的厚度為60～80nm。

進一步地，所述內(nèi)疏水層由內(nèi)向外依次為第二氧化硅層和內(nèi)聚四氟乙烯層，所述第二氧化硅層的膜層的厚度為20～30nm，所述內(nèi)聚四氟乙烯層的膜層的厚度為30～65nm。

更進一步地，所述隱身功能膜層由內(nèi)向外依次為第三氧化硅層、第三氧化銦錫層、第二金屬金層、第四氧化銦錫層和金屬鈦層，所述第三氧化硅層的膜層的厚度為12～25nm，第三氧化銦錫層的膜層的厚度為30～60nm，第二金屬金層的膜層的厚度為6～10nm，第四氧化銦錫層的膜層的厚度為30～60nm，金屬鈦層的膜層的厚度為5～8nm。

進一步地，所述外疏水膜層由內(nèi)向外依次為氮化鈦層、第四氧化硅層和外聚四氟乙烯層；所述氮化鈦層的膜層的厚度為20～50nm，所述第二氧化硅層的膜層的厚度為20～30nm，所述外聚四氟乙烯層的膜層的厚度為30～65nm。

本發(fā)明所述的用于軍用艦船艦橋玻璃隱身的耐腐蝕防霧薄膜的制備方法，包括如下步驟：

(1)采用平衡或非平衡磁控濺射方式，鍍膜設(shè)備置于潔凈度十萬級以內(nèi)、濕度小于55％的潔凈室內(nèi)，設(shè)備冷卻水溫度在16～26℃；鍍膜時本底真空要求：鍍膜室真空度<2.5×10^-3Pa、進入室和隔離室真空度<1Pa；

(2)艦橋玻璃基底經(jīng)清洗機清洗后，依次通過進入室和隔離室，到達鍍膜室，進入鍍膜室后，關(guān)閉隔離室與鍍膜室間的隔離閥，抽真空至本底真空，之后通入氬氣和相應(yīng)工藝氣體維持真空度在0.4～0.9Pa之間；

(3)待鍍膜室腔體內(nèi)總氣壓穩(wěn)定后，將艦橋玻璃基底的A面正對濺射靶面，A面與靶面之間的距離保持在6～20cm，連續(xù)開啟電源，依次在艦橋玻璃基底的A面上鍍制電加熱層和內(nèi)疏水層；