[發明專利]一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法

有效

• 申請號: 201710127664.8
• 申請日: 2017-03-06
• 公開（公告）號: CN106894390B
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 胡娟;劉昊;盛毅;陳剛
• 申請（專利權）人: 中國電建集團中南勘測設計研究院有限公司
• 主分類號: E02B3/16
• 分類號: E02B3/16
• 代理公司: 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113
• 代理人: 盧宏;鄭俊超

1.一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法,其特征在于包括如下步驟:

a)在大壩兩岸設置第一排灌漿平洞（1），在帷幕底線（10）深度大的區域、位于第一排灌漿平洞（1）下方設置第二排灌漿平洞（2），第一排灌漿平洞（1）和第二排灌漿平洞（2）軸線平行，且第一排灌漿平洞（1）和第二排灌漿平洞（2）的水平投影之間間隔距離Y；

b)在第二排灌漿平洞（2）尾部設置連通的支洞（5）；

c）在第一排灌漿平洞（1）內鉆孔并進行豎直帷幕灌漿，形成第一帷幕（3）；對于帷幕底線（10）深度小的區域，直接灌漿至第一排灌漿平洞（1）正下方的帷幕底線；對于帷幕底線（10）深度大的區域，灌漿深度超過第二排灌漿平洞（2）的頂部正投影線；

d）在第二排灌漿平洞（2）內鉆孔并進行豎直帷幕灌漿，形成第二帷幕（4），灌漿深度直至第二排灌漿平洞（2）正下方的帷幕底線（10）；

e）在間距Y范圍內，從第二排灌漿平洞（2）內朝第一帷幕（3）方向鉆孔并進行帷幕灌漿，形成側向搭接帷幕（8），并使側向搭接帷幕（8）與第一帷幕（3）相交；

f）在支洞（5）內沿支洞軸線且朝向第一排灌漿平洞（1）方向鉆斜向孔，進行斜向帷幕灌漿，其所形成的斜向帷幕（6）需與第一帷幕（3）相交，或者與帷幕底線（10）相交；

g）在支洞（5）內鉆豎直孔并進行豎直帷幕灌漿，形成第三帷幕（7），灌漿深度直至帷幕底線（10）。

2.根據權利要求1所述的適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法，其特征在于：步驟c）和d）中第一帷幕（3）和第二帷幕（4）的正投影存在部分重疊區域。

3.根據權利要求1或2所述的適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法，其特征在于：根據大壩兩岸的高度，對于帷幕底線（10）深度大的區域，按照步驟a）中的方法，在第二排灌漿平洞（2）與第一排灌漿平洞（1）之間增設有N排灌漿平洞，且每一排灌漿平洞尾部均設置支洞（5）；

在步驟d）之前，按照步驟c）中的方法在每一排灌漿平洞內鉆孔并進行豎直帷幕灌漿，且上一排灌漿平洞的灌漿深度超過下一排灌漿平洞的頂部正投影線；

在步驟d）之后，對每一排灌漿平洞尾部的支洞按照步驟e）、f）、g）的方法進行帷幕灌漿，從下一排灌漿平洞內朝上一帷幕方向鉆孔并進行帷幕灌漿，形成側向搭接帷幕，并使側向搭接帷幕與上一帷幕相交；在下一排支洞內朝上一排灌漿平洞方向鉆斜向孔，進行斜向帷幕灌漿，其所形成的斜向帷幕需與上一帷幕相交，或者與帷幕底線（10）相交；

同時，在自身支洞內進行豎直帷幕灌漿直至帷幕底線（10）。

4.根據權利要求1所述的適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法，其特征在于：步驟c）和d）可同時進行，亦可先后按次序進行。