[發明專利]一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法有效
| 申請號: | 201710127664.8 | 申請日: | 2017-03-06 |
| 公開(公告)號: | CN106894390B | 公開(公告)日: | 2019-05-03 |
| 發明(設計)人: | 胡娟;劉昊;盛毅;陳剛 | 申請(專利權)人: | 中國電建集團中南勘測設計研究院有限公司 |
| 主分類號: | E02B3/16 | 分類號: | E02B3/16 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務所有限責任公司 43113 | 代理人: | 盧宏;鄭俊超 |
| 地址: | 410014 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 大壩 兩岸 帷幕 灌漿 方法 | ||
本發明公開了一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法,包括如下步驟:a)在大壩兩岸設置第一排灌漿平洞,在帷幕底線深度大的區域、位于第一排灌漿平洞下方設置第二排灌漿平洞;b)設置支洞;c)在第一排灌漿平洞內豎直帷幕灌漿,形成第一帷幕;d)在第二排灌漿平洞內進行豎直帷幕灌漿,形成第二帷幕;e)從第二排灌漿平洞內朝第一帷幕方向鉆孔并進行帷幕灌漿,形成側向搭接帷幕;f)在支洞內沿支洞軸線且朝向第一排灌漿平洞方向進行斜向帷幕灌漿;g)在支洞內進行豎直帷幕灌漿,形成第三帷幕。本發明的方案避免灌漿平洞的二次開挖,且使得第一帷幕、第二帷幕、側向搭接帷幕、斜向帷幕、第三帷幕組合形成封閉的防滲結構,防滲效果好。
技術領域
本發明屬于水利水電技術領域,具體涉及一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法。
背景技術
在水利水電工程中,大壩兩岸的帷幕灌漿通常在灌漿平洞中進行。當帷幕較深時,通常設置數排灌漿平洞,各排灌漿平洞軸線平行且錯開一段距離。
在實際施工中,由于前期地質情況不明朗等原因,常會導致某排灌漿平洞設置過短,導致灌漿存在“盲區”。如圖1所示,第二排灌漿平洞2本應開挖至灌漿平洞帷幕底線10,但由于前期勘測的原因,僅達到圖1所示的位置。在這種情況下,通常的做法是將該排灌漿平洞再次開挖直至灌漿帷幕底線10附近,再次進行帷幕灌漿。但該種方式對于已經支護好的灌漿平洞,會造成二次開挖,增大開挖量和支護量,而且會影響施工進度。
發明內容
針對上述問題,本發明旨在提供一種可避免二次開挖、施工進度快、防滲效果好的適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法。
本發明解決問題的技術方案是:一種適用于大壩兩岸的帷幕灌漿方法,包括如下步驟:
a)在大壩兩岸設置第一排灌漿平洞,在帷幕底線深度大的區域、位于第一排灌漿平洞下方設置第二排灌漿平洞,第一排灌漿平洞和第二排灌漿平洞軸線平行,且第一排灌漿平洞和第二排灌漿平洞的水平投影之間間隔距離Y;
b)在第二排灌漿平洞尾部設置連通的支洞;
c)在第一排灌漿平洞內鉆孔并進行豎直帷幕灌漿,形成第一帷幕;對于帷幕底線深度小的區域,直接灌漿至第一排灌漿平洞正下方的帷幕底線;對于帷幕底線深度大的區域,灌漿深度超過第二排灌漿平洞的頂部正投影線;
d)在第二排灌漿平洞內鉆孔并進行豎直帷幕灌漿,形成第二帷幕,灌漿深度直至第二排灌漿平洞正下方的帷幕底線;
e)在間距Y范圍內,從第二排灌漿平洞內朝第一帷幕方向鉆孔并進行帷幕灌漿,形成側向搭接帷幕,并使側向搭接帷幕與第一帷幕相交;
f)在支洞內沿支洞軸線且朝向第一排灌漿平洞方向鉆斜向孔,進行斜向帷幕灌漿,其所形成的斜向帷幕需與第一帷幕相交,或者與帷幕底線相交;
g)在支洞內鉆豎直孔并進行豎直帷幕灌漿,形成第三帷幕,灌漿深度直至帷幕底線。
在傳統方案中,一般都會設計支洞用于交通等用途,但是并沒有將支洞用于帷幕灌漿。當第二排灌漿平洞過短時,會導致第一帷幕與第二帷幕之間有部分側向搭接帷幕無法施工,以及部分豎直帷幕無法施工。
本發明的方案利用支洞進行帷幕灌漿,彌補了灌漿平洞過短造成的無法施工的缺陷,且使得第一帷幕、第二帷幕、側向搭接帷幕、斜向帷幕、第三帷幕組合形成封閉的防滲結構,防滲效果好。
為進一步提高防滲效果,步驟c)和d)中第一帷幕和第二帷幕的正投影存在部分重疊區域。
實際施工過程中,不同工程的大壩兩岸的高度會有不同,傳統做法是設置多排灌漿平洞。同樣的,本發明的方案中也可根據大壩兩岸的高度,對于帷幕底線深度大的區域,按照步驟a)中的方法,在第二排灌漿平洞與第一排灌漿平洞之間增設有N排灌漿平洞,且每一排灌漿平洞尾部均設置支洞;
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