[發明專利]正型感光性聚硅氧烷組成物及其應用

有效

• 申請號: 201710122560.8
• 申請日: 2017-03-03
• 公開（公告）號: CN107179652B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 吳明儒;施俊安
• 申請（專利權）人: 奇美實業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G02B1/14
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 姚亮

本發明是有關一種正型感光性聚硅氧烷組成物及由該感光性硅氧烷組成物所形成的保護膜，其用于形成TFT基板用平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路的芯材或包覆材，所述保護膜具有耐熱性佳的特性。該正型感光性硅氧烷組成物包含聚硅氧烷(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、溶劑(C)及膦類(phosphine)化合物(D)。

技術領域

本發明是有關于一種適用于液晶顯示元件、有機EL顯示元件等的TFT基板用平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路的芯材或包覆材的正型感光性硅氧烷組成物，及由其形成的保護膜、及具有該保護膜的元件。特別是提供一種耐熱性佳的正型感光性聚硅氧烷組成物、其所形成的保護膜，以及具有保護膜的元件。

背景技術

近年來，在半導體工業、液晶顯示器或有機電激發光顯示器等領域中，隨著尺寸的日益縮小化，對于微影工藝中所需的圖案的微細化亦要求日高。為了達到微細化的圖案，一般是通過具有高解析及高感度的正型感光性材料經曝光及顯影而形成，其中，以聚硅氧烷聚合物為成分的正型感光性材料漸成為業界使用的主流。

在液晶顯示器或有機電激發光顯示器中，層狀配線間通常會配置層間絕緣膜以作為絕緣。正型感光性材料由于獲得圖案形狀的必要工序數較少，同時，所獲得的絕緣膜平坦度佳，故被廣泛使用于形成層間絕緣膜的材料。

例如，用于液晶顯示器的層間絕緣膜，其形成微細配線的接觸孔的圖案是必要的。而實際上，負型感光性組成物形成的接觸孔，達可使用水準的孔徑十分困難，因此，業界廣泛使用正型感光性組合物，以形成液晶顯示元件的層間絕緣膜(如日本特開2001-354822號所示)。

一般作為形成層間絕緣膜的正型感光性組合物的主要成分為丙烯酸類樹脂，但使用硅氧烷類材料的感光性組合物，其耐熱性及透明性皆較使用丙烯酸類樹脂材料的感光性組合物佳(如日本特開2000-1648號所示)。

然而，硅烷化合物或聚硅氧烷的聚硅氧烷類材料，因其本身易與同類或不同類化合物產生水解縮合反應。在制備正型感光性組合物時，這些副反應的發生會導致該正型感光性組合物的保存穩定性變差，其產品的壽命亦會縮短。

為抑制上述的縮合反應，業界已開發通過控制聚硅氧烷的分子量以及分枝結構以抑制縮合反應。日本特開2003-163209號公開了通過酸催化劑、金屬螯合物和堿催化劑的作用可得到不同分子量的聚硅氧烷以控制該聚硅氧烷的結構。然而，上述公報雖然公開了聚硅氧烷的各種分子量，但其并未考慮到該聚硅氧烷的感光特性；除介電常數外，也未考慮到層間絕緣膜的各種特性。

在此情況下，日本特開2011-123450號公開了一種正型感光性聚硅氧烷組成物，其具有優異的感光性、保存穩定性及耐熔體流動性，然而，該正型感光性樹脂組成物的耐熱性不佳，故無法令業界所接受。

因此，如何同時達到目前業界對耐熱性的要求，為本發明所屬技術領域中努力研究的目標。

發明內容

本發明利用提供特殊聚硅氧烷聚合物、鄰萘醌二疊氮磺酸酯及膦類化合物(phosphine)的成分，而得到耐熱性佳的正型感光性聚硅氧烷組成物。

因此，本發明提供一種正型感光性聚硅氧烷組成物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；

溶劑(C)；及

膦類化合物(D)；

其中，所述膦類化合物(D)包括至少一選自由三烷基膦化合物、三芳基膦化合物及膦鹽所組成的群組。

本發明亦提供一種于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用前述的正型感光性聚硅氧烷組成物施予所述基板上。

本發明又提供一種基板上的薄膜，其是由前述的方法所制得。

本發明再提供一種裝置，其包含前述的薄膜。