[發(fā)明專利]正型感光性聚硅氧烷組成物及其應用

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710122560.8
• 申請日: 2017-03-03
• 公開（公告）號: CN107179652B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發(fā)明（設計）人: 吳明儒;施俊安
• 申請（專利權）人: 奇美實業(yè)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/075
• 分類號: G03F7/075;G02B1/14
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 姚亮

1.一種正型感光性聚硅氧烷組成物，其包含：

聚硅氧烷(A)；

鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)；

溶劑(C)；及

膦類化合物(D)；

其中，所述膦類化合物(D)包括至少一選自由三烷基膦化合物、三芳基膦化合物及膦鹽所組成的群組；基于所述聚硅氧烷(A)的使用量為100重量份，所述膦類化合物(D)的使用量為0.1至3重量份；所述聚硅氧烷(A)至少是由式(I-1)所示的硅烷單體(a-1)聚縮合而得：

Si(R^a)_w(OR^b)_4-w 式(I-1)

其中：

R^a各自獨立表示氫原子、碳數為1至10的烷基、碳數為2至10的烯基、碳數為6至15的芳香基、含有酸酐基的碳數為1至10的烷基、含有環(huán)氧基的碳數為1至10的烷基或含有環(huán)氧基的烷氧基，且至少一個R^a表示含有酸酐基的碳數為1至10的烷基、含有環(huán)氧基的碳數為1至10的烷基或含有環(huán)氧基的烷氧基；

R^b各自獨立表示氫原子、碳數為1至6的烷基、碳數為1至6的酰基或碳數為6至15的芳香基；及

w表示1至3的整數。

2.根據權利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷組成物，其中，該感光性聚硅氧烷組成物進一步包含一無機粒子(E)，所述無機粒子(E)是以第四族元素的氧化物為主成分。

3.根據權利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷組成物，其中，所述無機粒子(E)中的所述第四族元素為鈦或鋯。

4.根據權利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷組成物，其中，所述無機粒子(E)的粒徑大小為1 nm至60 nm。

5.根據權利要求2所述的正型感光性聚硅氧烷組成物，其中，基于所述聚硅氧烷(A)的使用量為100重量份，所述無機粒子(E)的使用量為30至300重量份。

6.根據權利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷組成物，其中，基于所述聚硅氧烷(A)的使用量為100重量份，所述鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)的使用量為5至50重量份；及所述溶劑(C)的使用量為100至600重量份。

7.一種于一基板上形成薄膜的方法，其包含使用根據權利要求1至6中任一項所述的正型感光性聚硅氧烷組成物施予所述基板上。

8.一種基板上的薄膜，其是由權利要求7所述的方法所制得。

9.根據權利要求8所述的薄膜，其是為液晶顯示元件或有機電激發(fā)光顯示器中TFT基板用的平坦化膜、層間絕緣膜或光波導路的芯材或包覆材的保護膜。

10.一種液晶顯示元件、有機電激發(fā)光顯示器或光波導路，其包含根據權利要求8或9所述的薄膜。