[發(fā)明專利]用于有機(jī)發(fā)光二極管的沉積裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710122375.9
• 申請日: 2017-03-02
• 公開（公告）號: CN107151782B
• 公開（公告）日: 2019-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 柳在光;金鐘憲
• 申請（專利權(quán)）人: 樂金顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/50;H01L51/56
• 代理公司: 11227 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 蔡勝有;譚天<國際申請>=<國際公布>=

1.一種用于有機(jī)發(fā)光二極管的沉積裝置，包括：

支承單元，所述支承單元配置成支承裝載在其上的用于所述有機(jī)發(fā)光二極管的基板的下表面的邊緣部，所述支承單元設(shè)置在真空室內(nèi)，能夠豎直地移動或旋轉(zhuǎn)；

施壓單元，所述施壓單元配置成對所述支承單元上的所述基板的上表面的相反邊緣部施加壓力，使得所述基板的中心部向上凸起地彎曲；

靜電吸盤，所述靜電吸盤設(shè)置成能夠在所述基板上方豎直地移動以吸引所述基板；以及

具有設(shè)定的沉積圖案的掩模，所述掩模被固定在所述基板下方；以及

所述支承單元包括傾斜部，使得所述支承單元的上表面的高度從所述基板的邊緣部朝向所述基板的中心部逐漸增加。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，其中所述基板為玻璃。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的沉積裝置，其中所述施壓單元包括輥，所述輥設(shè)置在所述支承單元的所述傾斜部上方以便當(dāng)施加壓力至所述基板上時與所述基板的所述上表面的各邊緣部接觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，還包括設(shè)置在所述靜電吸盤上方的用于防止所述基板或所述掩模過熱的冷卻板。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，還包括磁力板，所述磁力板設(shè)置在所述靜電吸盤上方以在所述基板附著到所述靜電吸盤之后利用磁力使所述掩模與所述基板保持彼此接觸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的沉積裝置，還包括對準(zhǔn)相機(jī)，所述對準(zhǔn)相機(jī)設(shè)置在所述靜電吸盤上方以測量設(shè)置在所述基板上的第一標(biāo)記和設(shè)置在所述掩模上的第二標(biāo)記的對準(zhǔn)狀態(tài)。

7.一種用于有機(jī)發(fā)光二極管的沉積裝置，包括：

支承單元，所述支承單元配置成支承裝載在其上的用于有機(jī)發(fā)光二極管的基板的下表面的邊緣部，所述支承單元設(shè)置在真空室內(nèi)，能夠豎直地移動或旋轉(zhuǎn)；

靜電吸盤，所述靜電吸盤設(shè)置成在所述基板上方能夠豎直地移動以吸引所述基板；

具有設(shè)定的沉積圖案的掩模，所述掩模被固定在所述基板下方；以及

其中所述支承單元包括傾斜部，使得所述支承單元的上表面的高度從所述基板的邊緣部朝向所述基板的中心部逐漸增加。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉積裝置，還包括施壓單元，所述施壓單元被配置成豎直地移動并且對所述支承單元上的所述基板的上表面的相反邊緣部施加壓力，所述基板為玻璃。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的沉積裝置，其中所述施壓單元包括輥，所述輥設(shè)置在所述支承單元的所述傾斜部上方以便當(dāng)施加壓力至所述基板上時與所述基板的上表面的各邊緣部接觸。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉積裝置，還包括設(shè)置在所述靜電吸盤上方的用于防止所述基板或所述掩模過熱的冷卻板。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉積裝置，還包括磁力板，所述磁力板設(shè)置在所述靜電吸盤上方以在所述基板附著到所述靜電吸盤上之后利用磁力使所述掩模與所述基板保持彼此接觸。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的沉積裝置，還包括對準(zhǔn)照相機(jī)，所述對準(zhǔn)相機(jī)設(shè)置在所述靜電吸盤上方以測量設(shè)置在所述基板上的第一標(biāo)記和設(shè)置在所述掩模上的第二標(biāo)記的對準(zhǔn)狀態(tài)。