[發明專利]通過原位拓撲還原法得到NiFe/CeO2納米復合材料的方法

在審

• 申請號: 201710119508.7
• 申請日: 2017-03-02
• 公開（公告）號: CN106925282A
• 公開（公告）日: 2017-07-07
• 發明（設計）人: 溫鳴;顧琛;吳丹丹
• 申請（專利權）人: 同濟大學
• 主分類號: B01J23/83
• 分類號: B01J23/83
• 代理公司: 上海正旦專利代理有限公司31200
• 代理人: 張磊

1.一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于具體步驟如下：

（1）將Ni,Fe,Ce的無機鹽溶液加入到錐形瓶樣式的火膠棉膜內，密封后放入裝有氫氧化鈉溶液的燒杯中進行沉淀反應；反應結束后將樣品進行離心分離、洗滌、干燥，煅燒得到中間產物；Ni,Fe,Ce的無機鹽的摩爾比是6:4:1；所述Ni,Fe,Ce無機鹽的摩爾數總和與氫氧化鈉溶液的摩爾比是11:40；

（2）將步驟（１）得到的中間產物超聲、攪拌分散于溶有氫氧化鈉固體的乙二醇溶液中，在反應釜中進行還原反應；反應結束后將樣品進行離心分離，洗滌，干燥，得到最終產物，即二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料。

2.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）中配制Ni,Fe,Ce的無機鹽溶液采用的溶劑均為去離子水。

3.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）中所述Ni的無機鹽為氯化鎳，Fe的無機鹽為硫酸亞鐵，Ce的無機鹽為硝酸鈰，濃度均為0.025mol/L。

4.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）中所述氫氧化鈉溶液的濃度為0.1mol/L。

5.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到的二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）中所述沉淀反應時間為1小時。

6.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到的二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）和步驟（２）中所述的洗滌都是使用去離子水及無水乙醇進行交替洗滌。

7.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到的二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）和步驟（２）中所述的離心分離轉速均為6000轉/分鐘，時間均為5分鐘。

8.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到的二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（１）和步驟（２）中所述的干燥均是在真空干燥箱60℃下干燥10h。

9.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（２）中所述的溶有氫氧化鈉的乙二醇溶液，其濃度為0.25mol/L。

10.根據權利要求1所述的一種通過原位拓撲還原法得到二維薄層狀NiFe/CeO₂納米復合材料的方法，其特征在于：步驟（２）中所述還原反應時間為12小時,反應溫度為140℃-180℃。