[發明專利]一種通過MOSFET控制結終端集成體二極管的RC-IGBT器件有效
| 申請號: | 201710099683.4 | 申請日: | 2017-02-23 |
| 公開(公告)號: | CN106847891B | 公開(公告)日: | 2019-09-03 |
| 發明(設計)人: | 陳偉中;郭喬;賀利軍;黃義 | 申請(專利權)人: | 重慶郵電大學 |
| 主分類號: | H01L29/417 | 分類號: | H01L29/417;H01L29/423;H01L29/66;H01L29/739 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 通過 mosfet 控制 終端 集成 二極管 rc igbt 器件 | ||
本發明涉及RC?IGBT,屬于半導體功率器件領域,包括從上至下設置的陰極層、N?漂移區、N緩沖層和集電區,集電區包括同層設置的N集電區和P集電區,陰極層內間隔設置有若干多晶硅柵電極,每個柵電極被SiO2柵氧化層包圍;RC?IGBT器件從左到右為有源區、過渡區和結終端區,結終端區底層完全由N集電區構成。本發明利用結終端區集成了體二極管,結終端的場限環P?ring作為二極管的陽極,結終端區底層的N集電區作為二極管的陰極,其導通狀態受集成在過渡區的MOSFET的控制。本發明所提出的RC?IGBT器件在正向導通IGBT模式下能徹底消除snapback現象,且正向導通壓降降低了19.4%,這種結構大大提高了RC?IGBT的性能。
技術領域
本發明涉及半導體功率器件領域,具體涉及一種通過MOSFET控制結終端集成體二極管的RC-IGBT器件。
背景技術
IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor,絕緣柵雙極型晶體管)因其耐壓等級可以從600V跨度到6500V,被廣泛應用于高鐵、新能源開發、家用電器、智能電網等領域。但IGBT是一個單向導通器件,反向導通時等效于兩個背靠背的二極管從而無法導通。在IGBT典型逆變電路應用中就需要反并聯一個續流二極管FWD(Free Wheeling Diode)以作保護作用。RC-IGBT(Reverse-Conducting Insulated Gate Bipolar Transistor,逆導型絕緣柵雙極型晶體管)將IGBT的部分集電極P-Collector用N-Collector取代,集電極P-Collector和N-Collector間隔排列其結構如圖1所示。使得原來IGBT中兩個背靠背二極管P-body/N-drift,N-buffer/P-Collector變成了P-body/N-drift,N-buffer/N-Collector一個二極管結構,實現了IGBT內部二極管的集成。不但提高了芯片的集成度還能夠節約成本,消除了IGBT芯片與二極管芯片之間存在的溫度差,提高了可靠性。
但是傳統RC-IGBT有存在自身的一些缺點:一方面由于N-Collector的引入,從MOS流出的電子在流向集電極時首先流向低勢壘的N-Collector,并在底部的PN結(P-Collector/N-buffer)上產生一個電勢差VPN如圖2所示。當VPN<0.7V時只有電子參與導電,RC-IGBT工作在單極性導電模式下。當VPN≥0.7V時,P-Collector向漂移區注入空穴,RC-IGBT工作在雙極性導電模式下。由于兩種導電模式的轉換導致了輸出曲線上電流電壓的突變,即出現了負阻Snapback現象。這種現象使得RC-IGBT在并聯使用時一些器件完全不能進入IGBT的工作模式,一些器件則因電流過大溫度過高造成器件燒毀,最終導致整個電路系統崩潰。
另一方面,傳統RC-IGBT器件版圖如圖3所示,由于N-Collector作為FWD的陰極,其上方區域為FWD區,P-Collector作為IGBT的陽極,其上方區域為IGBT區,傳統RC-IGBT的IGBT與FWD混合在同一個有源區內(Active region)。這樣傳統RC-IGBT不論工作在IGBT正向導通模式或者FWD反向導通模式,都只有有源區導通電流,而結終端區(Edgetermination)面積很大如圖1圖3所示,卻只起到一個承受反向擊穿電壓的作用,無導通電流流過,造成電流分布不均勻且芯片利用率低。
發明內容
有鑒于此,本發明的目的在于提供一種通過MOSFET控制結終端集成體二極管的RC-IGBT器件。
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