[發明專利]清除裝置及其操作方法、切割裝置

有效

• 申請號: 201710098889.5
• 申請日: 2017-02-23
• 公開（公告）號: CN106863434B
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 劉平;胡慶玉;金用燮
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: B26D7/18
• 分類號: B26D7/18;B28D5/00;B28D7/00;B23Q11/00;B08B1/00;B08B3/02;B08B5/02;B08B5/04;B08B13/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

一種清除裝置及其操作方法、切割裝置。該清除裝置包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發送反映所述工作面的清潔程度的數據信號。該清除裝置通過檢測單元檢測工作臺的清潔程度以對是否進行下次清除操作進行控制，從而在提高清除裝置工作效率的同時保證工作臺的清潔，提高產品良率。

技術領域

本公開涉及一種清除裝置及其操作方法、切割裝置。

背景技術

在產品(例如顯示面板)的切割工藝過程中，切割裝置會將顯示面板中無用的虛設(Dummy)區域切割掉，在進入下一制程(例如切割后續產品)之前需要清除切割裝置的工作臺上的異物(例如切割產生的碎屑等)，例如通過清除裝置將異物掃入碎壓機中。

工作臺上存在的異物會使得后續產品切割過程中的不平，影響產品的切割良率。但是在當前的技術工藝中，不能保證工作臺上的異物會被清除干凈，而傳統的例如設定清掃次數的方法會降低清除效率并延長產品生產時間，而且也無法保證異物會被清除干凈，既無法保證產品良率又增加成本。

公開內容

本公開至少一實施例提供一種清除裝置及其操作方法、切割裝置以解決上述技術問題。該清除裝置中設置有檢測工作面清潔程度的檢測單元，可以依據實時監控的工作面的清潔程度以判斷是否對工作面繼續進行清除操作，可以在保證工作面的清潔程度并提高產品良率的同時，避免因重復清除操作等造成的設備例如清除單元過度損耗的問題。

本公開至少一實施例提供一種清除裝置，包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發送反映所述工作面的清潔程度的數據信號。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述數據信號反映為工作面未清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元再次清掃所述工作面；或者所述數據信號反映為工作面已清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元停止清掃所述工作面。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述檢測單元可以包括用于發射信號的發射端和用于接收所述信號的接收端，所述發射端和所述接收端分別位于所述工作臺的相對兩側。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述信號可以包括激光或超聲波。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述控制單元中可以設置有限制所述第一清除單元操作次數的第一閾值。

例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括設置于所述工作臺的所述工作面一側的第二清除單元。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述控制單元中可以設置有限制所述第二清除單元操作次數的第二閾值。

例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括與所述控制單元連通的報警系統，其中，所述報警系統設置為所述第一清除單元的操作次數大于所述第一閾值時啟動；和/或所述報警系統設置為所述第二清除單元的操作次數大于所述第二閾值時啟動。

例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述第一清除單元包括刷除裝置、噴氣裝置或水洗裝置；和/或所述第二清除單元包括真空吸收裝置。

例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括設置于所述工作臺一側的碎壓機。