[發明專利]一種瓷磚制作方法及其制備裝置

在審

• 申請號: 201710093210.3
• 申請日: 2017-02-21
• 公開（公告）號: CN106866183A
• 公開（公告）日: 2017-06-20
• 發明（設計）人: 陳嵐波;吳國良;吳國偉
• 申請（專利權）人: 福建華泰集團股份有限公司
• 主分類號: C04B41/89
• 分類號: C04B41/89;B28B11/04
• 代理公司: 福州盈創知識產權代理事務所(普通合伙)35226
• 代理人: 李明通

1.一種瓷磚制作方法，其特征在于：包括如下步驟：

（1）將瓷磚基層使用清潔劑清洗干凈；

（2）將清潔好的瓷磚基層烘干；

（3）在高溫狀態下，在瓷磚基層表面涂上打磨劑，形成打磨層；所述打磨劑為氫氟酸、硫酸和水混合物；

（4）打磨好的瓷磚再次清潔并烘干；

（5）將消音劑打入淋盤上，使消音劑形成瀑布狀流體；打磨過的瓷磚勻速傳送通過瀑布流體，在瓷磚表面形成消音層；所述消音劑為清潔液和硅微粉混合物；

（6）將表面帶有消音層的瓷磚通過輥棒運送至窯爐，高溫烘烤；

（7）烘烤后瓷磚冷卻，制得瓷磚成品；所述瓷磚成品包括瓷磚基層、打磨層和消音層。

2.如權利要求1所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：所述消音劑中清潔液和硅微粉，體積比為9:11，清潔液和硅微粉混合均勻后，靜置24～48小時。

3.如權利要求1所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：所述消音劑還包括苯乙烯。

4.如權利要求1-3任一項所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：步驟（2）中烘烤溫度為120±5℃；步驟（3）中制作打磨層方式為利用噴槍噴涂；步驟（5）中利用壓力泵將消音劑打入淋盤；步驟（6）中烘烤溫度為1000±10℃，烘烤時間為30分鐘。

5.如權利要求1-3任一項所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：所述打磨劑中各成分的體積比為：氫氟酸5-8%、硫酸3-9%、水80-90%。

6.如權利要求1-3任一項所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：所述清潔液為瓷磚洗潔劑水溶液，瓷磚洗潔劑濃度為5%。

7.如權利要求1-3任一項所述的一種瓷磚制作方法，其特征在于：瓷磚表面具有數碼打印的圖案，所述數碼打印過程采用水性無機油墨。

8.一種瓷磚制備裝置，其特征在于：包括：

打印機主體；傳送機構；噴繪機構；墨水輸送系統；主控系統；所述傳送機構、噴繪機構、墨水輸送系統和主控系統安裝在打印機主體上，傳送機構連續將多片瓷磚底板傳送到噴繪機構下方進行釉料圖案噴繪，形成瓷磚的圖案。

9.根據權利要求8所述的一種瓷磚制備裝置，其特征在于：所述傳送機構包括設置在打印機主體上的兩個傳送輥和套在傳送輥上的傳送帶，傳送帶內側左右各設置一條密封條，兩個傳送輥左右均設有與密封條配合的密封槽，傳送帶左右兩側各設有一個側蓋，在傳送帶內側形成一個封閉腔體。

10.根據權利要求8所述的一種瓷磚制備裝置，其特征在于：所述噴繪機構與墨水輸送系統構成具有清洗噴繪機構和回收墨水的墨水循環系統，具體包括一級墨盒、二級墨盒、墨水壩、噴頭、墨托和負壓機構，一級墨盒依次連接二級墨盒、墨水壩和噴頭，通過泵向噴頭供墨，墨托移動設置在噴頭下方并連接至一級墨盒，負壓機構向墨托提供空氣負壓將噴頭噴出的墨水輸送至一級墨盒。

11.根據權利要求8所述的一種瓷磚制備裝置，其特征在于：所述墨水輸送系統構包括墨水加熱系統，墨水加熱系統包括在墨盒與噴頭組之間設有墨水壩 ，墨水壩內設置有的墨水通道和水浴加熱通道，墨水壩上開設有連通墨水通道的墨水接口和連通水浴加熱通道的熱水接口，墨水接口連接墨盒和噴頭，熱水接口連接外界熱水源。

12.根據權利要求8所述的一種瓷磚制備裝置，其特征在于：所述墨水輸送系統構包括吸墨運動機構，吸墨運動機構包括打印機的噴頭組和墨托組，墨托組移動設置在噴頭組下方，與噴頭組相對應，其特征在于所述噴頭組安裝在噴頭支架上，噴頭支架通過升降裝置與打印機主體連接；所述墨托組安裝在墨托支架上，墨托支架通過平移裝置與打印機主體連接。