[發明專利]光學防偽元件及使用該光學防偽元件的光學防偽產品

有效

• 申請號: 201710089955.2
• 申請日: 2017-02-20
• 公開（公告）號: CN108454264B
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 孫凱;張寶利;朱軍;王曉利
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B42D25/324
• 分類號: B42D25/324
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 羅攀;肖冰濱

1.一種光學防偽元件，其特征在于，該光學防偽元件包括：

基材，該基材包括彼此相對的第一表面和第二表面；

形成在所述第一表面上的微采樣工具；以及

形成在所述第二表面的一個或多個微圖文單元，所述微圖文單元包括微圖文筆畫，該微圖文筆畫以非周期且非固定幾何形狀的形式排列，并且使得通過所述微采樣工具觀察所述第二表面能夠觀察到再現圖像的立體的動畫防偽特征。

2.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其特征在于，該光學防偽元件還包括：

在所述微圖文筆畫上同形覆蓋的第一涂層；和/或

在所述第二表面的所述微圖文筆畫之間的區域上同形覆蓋的第二涂層。

3.根據權利要求1或2所述的光學防偽元件，其特征在于，所述微采樣工具為微透鏡陣列。

4.根據權利要求3所述的光學防偽元件，其特征在于，所述微透鏡陣列為以下中的一者或任意組合：柱透鏡陣列、球透鏡陣列、菲涅爾透鏡陣列。

5.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其特征在于，

所述微圖文筆畫由第一微浮雕結構形成，在該第一微浮雕結構上同形覆蓋有所述第一涂層；以及

所述微圖文筆畫之間的區域為平坦區域，在該平坦區域上同形覆蓋有所述第二涂層。

6.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其特征在于，

所述微圖文筆畫由第一微浮雕結構形成，在該第一微浮雕結構上同形覆蓋有所述第一涂層；以及

所述微圖文筆畫之間的區域由第二微浮雕結構形成，在該第二微浮雕結構上同形覆蓋有所述第二涂層。

7.根據權利要求5或6所述的光學防偽元件，其特征在于，所述第一微浮雕結構為以下中的一者或任意組合：周期在0.8μm至3μm的范圍內的衍射光柵、周期在3μm至30μm的范圍內的閃耀光柵、隨機散射結構和周期在0.1μm至0.8μm范圍內的亞波長光柵。

8.根據權利要求6所述的光學防偽元件，其特征在于，所述第二微浮雕結構為隨機散射結構。

9.根據權利要求1所述的光學防偽元件，其特征在于，該光學防偽元件還包括：

在所述微圖文筆畫上同形覆蓋的第一涂層，所述微圖文筆畫是平坦的或者由深寬比范圍為0至0.3的微結構形成；以及

所述微圖文筆畫之間的區域未覆蓋涂層，所述微圖文筆畫相對于所述微圖文筆畫之間的區域凸起。

10.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其特征在于，所述第一涂層和/或所述第二涂層為以下中的一者或任意組合：單層金屬鍍層、多層金屬鍍層、由吸收層、低折射率介質層和反射層形成的鍍層、高折射率介質層鍍層、由第一高折射率介質層、低折射率介質層和第二高折射率介質層依次堆疊形成的多介質層鍍層、以及由吸收層、高折射率介質層和反射層依次堆疊形成的鍍層。

11.根據權利要求2所述的光學防偽元件，其特征在于，該光學防偽元件還包括在所述第一涂層和/或所述第二涂層的表面上至少部分覆蓋的顏色層。

12.根據權利要求9所述的光學防偽元件，其特征在于，所述第一涂層為以下中的一者或任意組合：單層金屬鍍層、多層金屬鍍層、由吸收層、低折射率介質層和反射層形成的鍍層、高折射率介質層鍍層、由第一高折射率介質層、低折射率介質層和第二高折射率介質層依次堆疊形成的多介質層鍍層、以及由吸收層、高折射率介質層和反射層依次堆疊形成的鍍層。

13.根據權利要求9所述的光學防偽元件，其特征在于，該光學防偽元件還包括在所述第一涂層的表面上至少部分覆蓋的顏色層。

14.根據權利要求11或13所述的光學防偽元件，其特征在于，所述顏色層的顏色為一種顏色或者為多種顏色的組合。