[發明專利]用于顯影設備的排氣箱及黃光制程顯影設備

有效

• 申請號: 201710084350.4
• 申請日: 2017-02-16
• 公開（公告）號: CN106842832B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發明（設計）人: 張瑞軍;王松
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;顧楠楠

技術領域

本發明涉及一種液晶面板制造技術，特別是一種用于陣列制程涂膠、曝光后進行顯影制程的用于顯影設備的排氣箱及黃光制程顯影設備。

背景技術

薄膜晶體管液晶顯示器制程中，陣列制程的黃光制程涂膠、曝光后進行的顯影制程，多采用浸漬處理方式(Puddle方式)，主要作用是：當是正性光阻時，與曝光后的光阻進行反應使其溶解在顯影液中，當是負性光阻時，與沒有曝光的光阻進行反應使其溶解在顯影液中，經過顯影制程后，基板光阻可以定義出曝光膜(Mask)的圖形，對底層須定義的電路圖形進行保護，再進行后續蝕刻與光阻剝離制程，最終在基板上制作出電路圖形。目前，經過涂布曝光制程后的基板執行Puddle方式顯影時，可能因為廠務排氣流量不穩定，導致顯影腔體排氣出現氣流紊亂，將可能導致在顯影液未涂布前，顯影蒸汽提前轟擊至基板的光阻上，由于陣列制成中光阻對顯影液異常敏感，將導致基板上部分光阻提前顯影，造成本該有光阻保護的區域裸露，出現光阻斷線問題，進而后續蝕刻制程時，造成電路圖形斷路。

發明內容

為克服現有技術的不足，本發明提供一種用于顯影設備的排氣箱及黃光制程顯影設備，從而使顯影腔室內的排氣均勻。

本發明提供了一種用于顯影設備的排氣箱，包括箱體，所述箱體的其中一側表面上設有均勻分布的排氣孔，在箱體上設有與箱體內腔連通的連接管。

進一步地，所述排氣孔呈蜂窩狀排布。

進一步地，所述排氣孔的孔徑為10～20mm。

進一步地，所述箱體為長方體。

本發明還提供了一種黃光制程顯影設備，包括多個相互拼接而成的顯影腔室，在顯影腔室中設有用于將待顯影基板依次輸送至每個顯影腔室中的傳送機構，在每個顯影腔室的同一位置上分別設有與顯影腔室連通的排氣管，所述排氣管上設有風量調節閥，還包括所述的用于顯影設備的排氣箱，每個顯影腔室內分別設有一個與排氣管連接的排氣箱，所述排氣孔與顯影腔室的頂部相對，連接管與排氣管相連。

進一步地，每個排氣管的排氣量按照顯影腔室的排列順序從頭到尾排氣量依次增大。

進一步地，所述排氣孔呈蜂窩狀排布。

進一步地，所述排氣孔的孔徑為10～20mm。

進一步地，所述箱體為長方體。

進一步地，所述箱體的長度為300～800mm，寬度為100～200mm，高度為100～200mm。

本發明與現有技術相比，通過設置排氣箱，在排氣箱上均勻設置排氣孔并且排氣孔朝上，使得顯影腔室內的排氣均勻，避免單一排氣孔排氣造成顯影蒸汽流向紊亂現象，改善黃光制成后因顯影排氣設計不合理造成的光阻破孔及光阻線路斷線現象。

附圖說明

圖1是本發明的排氣箱的外部結構示意圖；

圖2是本發明的排氣箱的內部結構示意圖；

圖3是本發明的黃光制程顯影設備的結構示意圖；

圖4是本發明的黃光制程顯影設備的局部示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本發明作進一步詳細說明。

如圖1和圖2所示，本發明的用于顯影設備的排氣箱包括箱體1，箱體1所述箱體1的其中一側表面上設有均勻分布的排氣孔2，在箱體1上設有與箱體1內腔連通的連接管3；所述排氣孔2設置在箱體1面積最大的一側表面上。

作為箱體1的一種較佳實施方式，箱體1為長方體，具有四個上、下、左右四個端面以及兩個側面，排氣孔2設置在其中一個端面上；箱體1優選為：長度為300～800mm，寬度為100～200mm，高度為100～200mm；本發明箱體1的尺寸不限于此，還可根據顯影設備的顯影腔室的大小進行調整。

所述排氣孔2呈蜂窩狀排布，排氣孔2的孔徑為10～20mm，排氣孔2的密度可根據實際要求進行設置。