[發明專利]一種平板陶瓷膜的自動涂膜裝置及平板陶瓷膜的制備方法在審
| 申請號: | 201710084307.8 | 申請日: | 2017-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN108435000A | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發明(設計)人: | 張偉;楊東亮;樊震坤;王磊;李泉;張超;孟凡鵬;張健 | 申請(專利權)人: | 上海硅苑膜科技有限公司;山東硅元新型材料股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D69/06 | 分類號: | B01D69/06;B01D69/10;B01D67/00;B01D71/02;B05C9/14;B05C3/10;B05D3/02;B05C13/02;B05D1/18 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人: | 馮子玲 |
| 地址: | 200082 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐體 陶瓷膜 涂膜 涂膜液 后烘干裝置 烘干裝置 烘干 膜槽 自動涂膜裝置 旋轉軌道 制備裝置 制備 浸入 出水量 控制柜 預烘干 扁狀 步進 卡箍 停留 攜帶 保證 | ||
1.一種平板陶瓷膜的自動涂膜裝置,其特征在于,包括:
支撐體烘干裝置,對未涂膜的支撐體進行預烘干;
浸膜槽,內部充有涂膜液,支撐體浸入涂膜液中,兩側外表面同時接觸涂膜液;
涂膜后烘干裝置,對涂膜后的支撐體進行烘干;
旋轉軌道,攜帶所述支撐體依次通過支撐體烘干裝置、浸膜槽以及涂膜后烘干裝置;
控制柜,控制的參數包括:旋轉軌道的步進速度,涂膜后烘干裝置的烘干溫度,工件在浸膜槽中的停留時間,支撐體烘干裝置的烘干溫度。
2.如權利要求1所述的平板陶瓷膜的自動涂膜裝置,其特征在于:
其中,所述支撐體烘干裝置的烘干溫度為40-70℃,且溫度可調。
3.如權利要求1所述的平板陶瓷膜的自動涂膜裝置,其特征在于:
其中,涂膜后的烘干裝置的烘干溫度為70-120℃,且溫度可調。
4.如權利要求1所述的平板陶瓷膜的自動涂膜裝置,其特征在于:
其中,所述扁狀卡箍包括:
第一夾臂和第二夾臂,二者的一端為轉動連接,另一端為可拆卸連接;
第一夾臂和第二夾臂相接觸的一面上具有防水片;第一夾臂和第二夾臂閉合后形成防水腔,所述支撐體的內部通道的左右兩端分別位于一個所述防水腔中。
5.利用如權利要求1~4所述的裝置制備平板陶瓷膜的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟一:配制涂膜液;
步驟二:將步驟一配制的涂膜液置入涂膜裝置的浸膜槽中;
步驟三:使用扁狀卡箍將平板陶瓷膜的支撐體的兩端夾住,將支撐體的兩端密封,防止涂膜液進入支撐體的內表面;將扁狀卡箍與旋轉軌道固定連接;
步驟四:設置浸漿時間、步進速度、浸膜槽前后的烘干溫度等參數,然后啟動裝置進行自動涂膜;
步驟五:燒結,將步驟四中涂膜后的平板陶瓷膜放入隧道窯或梭式窯爐中燒結,升溫速度為2-6℃/min,燒結溫度為600-1500℃,保溫2-4小時,降溫速度為2-6℃/min,降溫至調整為100-200℃后出窯檢測,即為成品。
6.如權利要求5所述的平板陶瓷膜的制備方法,其特征在于:
其中,所述涂膜液的配制方法如下:
將0.5~2份1N硝酸投入100份去離子水中,低速攪拌3~10分鐘后,緩慢加入10份氧化鋁粉體,高速攪拌20~40分鐘后,緩慢加入0.5~2份PVA粉末,繼續高速攪拌20~40分鐘,得到混合物A;
將混合物A置入真空度為0.005~0.02MPa真空裝置內,低速攪拌20分鐘以上。
7.如權利要求5所述的平板陶瓷膜的制備方法,其特征在于:
其中,在步驟四的涂膜過程中,所述支撐體先進入支撐體烘干裝置中進行預烘干后,再浸入涂膜液中。
8.如權利要求5所述的平板陶瓷膜的制備方法,其特征在于:
其中,使用的硝酸當量濃度為1N,且所述1N硝酸的用量為0.5-2份。
9.如權利要求5所述的平板陶瓷膜的制備方法,其特征在于:
其中,使用的聚乙烯醇PVA為粉末狀、化工級,且PVA的用量為0.5-2份。
10.如權利要求5所述的平板陶瓷膜的制備方法,其特征在于:
其中,所述低速攪拌的轉速為1000-4900rpm,時間為5分鐘,高速攪拌的轉速為5000-12000rpm,時間為30分鐘。
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