[發明專利]去毛邊系統及去毛邊方法

在審

• 申請號: 201710080313.6
• 申請日: 2017-02-15
• 公開（公告）號: CN108428614A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 朱世杰;林昱禎
• 申請（專利權）人: 佳升科技有限公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/67;H01L21/68
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 景懷宇

1.一種去毛邊系統，其特征在于，包括：

用于放置晶圓的對位平臺，所述晶圓的邊緣具有毛邊；以及

激光機，所述激光機設置在所述對位平臺的一側，所述激光機以投射角度投射激光線，所述激光機投射所述激光線以移除所述毛邊。

2.根據權利要求1所述的去毛邊系統，其特征在于，所述對位平臺具有旋轉結構，所述旋轉結構能夠帶動所述晶圓旋轉。

3.根據權利要求1所述的去毛邊系統，其特征在于，所述激光機能夠相對于所述對位平臺旋轉。

4.根據權利要求1所述的去毛邊系統，其特征在于，還具有對位裝置，所述對位裝置設置在所述對位平臺遠離所述激光機的一側，所述對位裝置用以確認所述晶圓的偏移量。

5.根據權利要求4所述的去毛邊系統，其特征在于，所述偏移量為所述對位平臺的外徑與所述晶圓的外徑間距離差，所述對位平臺的外徑尺寸小于所述晶圓的外徑尺寸。

6.根據權利要求4或5所述的去毛邊系統，其特征在于，還具有機械手臂，所述機械手臂用以移動所述晶圓或調整所述偏移量。

7.根據權利要求4所述的去毛邊系統，其特征在于，所述對位裝置為攝影裝置或2D量測裝置。

8.根據權利要求1所述的去毛邊系統，其特征在于，還具有風罩，所述風罩相對于所述對位平臺的頂面設置，所述風罩與所述對位平臺間隔活動距離，所述風罩能夠相對于所述對位平臺的軸向升降調整所述活動距離，所述晶圓等間隔設有多個芯片，所述風罩的罩覆范圍為各所述芯片設置區域。

9.根據權利要求1所述的去毛邊系統，其特征在于，所述投射角度與所述對位平臺的軸向夾角為45度。

10.一種去毛邊方法，包括以下步驟：

將晶圓放置在對位平臺，所述對位平臺具有旋轉結構，所述晶圓具有毛邊；

所述旋轉結構帶動所述晶圓旋轉，通過對位裝置確認所述晶圓邊緣的偏移量是否相等；以及

所述偏移量相等時，所述激光機以投射角度投射激光線并移除所述毛邊。

11.根據權利要求10所述的去毛邊方法，其特征在于，當所述偏移量不相等時，所述旋轉結構停止旋轉，通過機械手臂移動所述晶圓，調整所述偏移量。

12.根據權利要求10所述的去毛邊方法，其特征在于，將所述晶圓放置在所述對位平臺前，風罩升離所述對位平臺，調整所述風罩與所述對位平臺間的活動距離，提供所述機械手臂放置所述晶圓的空間。

13.根據權利要求10所述的去毛邊方法，其特征在于，當所述晶圓放置在所述對位平臺后，風罩調降所述活動距離，且罩覆在所述晶圓設有的多個芯片范圍內，所述風罩產生往所述晶圓方向的氣流。

14.根據權利要求10所述的去毛邊方法，其特征在于，所述對位裝置為攝影裝置或2D量測裝置。