[發明專利]顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請號: 201710079294.5
• 申請日: 2017-02-14
• 公開（公告）號: CN106814498B
• 公開（公告）日: 2019-11-05
• 發明（設計）人: 許卓;白雅杰;郭建東;劉珠林;張手強;王謙;方琰;張加勤
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

本發明公開一種顯示裝置及其制造方法，屬于液晶顯示技術領域。顯示裝置包括背光模組和顯示面板，顯示面板包括對盒成型的陣列基板和彩膜基板，背光模組包括背光源和反射片，背光源設置在反射片與陣列基板之間；陣列基板包括第一襯底基板以及設置在第一襯底基板靠近彩膜基板的一側的反射圖形，彩膜基板包括第二襯底基板以及設置在第二襯底基板靠近陣列基板的一側的黑矩陣圖形，黑矩陣圖形在陣列基板上的正投影將反射圖形覆蓋；其中，背光源發射出的光線在反射圖形與反射片之間反射后，能夠通過黑矩陣圖形的開口區域從彩膜基板射出。本發明解決了顯示面板的透光率較低的問題，提高了顯示面板的透光率。本發明用于液晶顯示裝置。

技術領域

本發明涉及液晶顯示技術領域，特別涉及一種顯示裝置及其制造方法。

背景技術

隨著液晶顯示技術的不斷發展，液晶顯示裝置廣泛應用于顯示領域，液晶顯示裝置通常可以包括薄膜晶體管液晶顯示器(英文：Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay；簡稱：TFT-LCD)。

相關技術中，液晶顯示裝置包括顯示面板和背光模組，顯示面板包括對盒成型的陣列基板和彩膜基板，以及位于陣列基板和彩膜基板之間的液晶層。其中，彩膜基板包括襯底基板以及依次形成在襯底基板上的黑矩陣(英文：Black Matrix；簡稱：BM)圖形和彩色濾光層，彩色濾光層包括多個彩色濾光單元，黑矩陣圖形包括多個黑矩陣，任意相鄰的兩個黑矩陣之間具有一個開口區域，每個開口區域內設置有一個彩色濾光單元；背光模組包括背光源，背光源發射出的光線能夠依次經過陣列基板、液晶層和彩膜基板，并從彩膜基板射出。背光源發射出的光線在經過彩膜基板時，到達彩色濾光單元的光線被彩色濾光單元濾光產生彩色光線并從彩膜基板射出，到達黑矩陣的光線則被黑矩陣吸收而無法從彩膜基板射出。

在實現本發明的過程中，發明人發現相關技術至少存在以下問題：由于到達黑矩陣的光線無法從彩膜基板射出，因此顯示面板的透光率較低。

發明內容

為了解決顯示面板的透光率較低的問題，本發明提供一種顯示裝置及其制造方法。所述技術方案如下：

第一方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括背光模組和顯示面板，

所述顯示面板包括對盒成型的陣列基板和彩膜基板，所述背光模組包括背光源和反射片，所述背光源設置在所述反射片與所述陣列基板之間；

所述陣列基板包括第一襯底基板以及設置在所述第一襯底基板靠近所述彩膜基板的一側的反射圖形，所述彩膜基板包括第二襯底基板以及設置在所述第二襯底基板靠近所述陣列基板的一側的黑矩陣圖形，所述黑矩陣圖形在所述陣列基板上的正投影將所述反射圖形覆蓋；

其中，所述背光源發射出的光線在所述反射圖形與所述反射片之間反射后，能夠通過所述黑矩陣圖形的開口區域從所述彩膜基板射出。

可選地，所述反射圖形包括金屬反射圖形，所述陣列基板還包括金屬圖形，所述反射圖形與所述金屬圖形位于同一層。

可選地，所述反射圖形與所述金屬圖形通過一次構圖工藝形成。

可選地，所述金屬圖形包括柵極金屬圖形、公共電極線金屬圖形和源漏極金屬圖形中的任意一種。

可選地，所述金屬圖形包括源漏極金屬圖形，所述源漏極金屬圖形包括源極和漏極，且所述源極包括延伸圖形，所述反射圖形包括空白反射圖形和所述延伸圖形；

所述陣列基板還包括：柵極金屬圖形和公共電極線金屬圖形，所述空白反射圖形在所述第一襯底基板上的正投影位于所述柵極金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影與所述公共電極線金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影之間。

第二方面，提供一種顯示裝置的制造方法，所述方法包括：