[發(fā)明專利]顯示裝置及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710079294.5
• 申請(qǐng)日: 2017-02-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106814498B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許卓;白雅杰;郭建東;劉珠林;張手強(qiáng);王謙;方琰;張加勤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1335
• 分類號(hào): G02F1/1335
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 滕一斌

1.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括背光模組和顯示面板，

所述顯示面板包括對(duì)盒成型的陣列基板和彩膜基板，所述背光模組包括背光源和反射片，所述背光源設(shè)置在所述反射片與所述陣列基板之間；

所述陣列基板包括第一襯底基板以及設(shè)置在所述第一襯底基板靠近所述彩膜基板的一側(cè)的反射圖形，所述彩膜基板包括第二襯底基板以及設(shè)置在所述第二襯底基板靠近所述陣列基板的一側(cè)的黑矩陣圖形，所述黑矩陣圖形在所述陣列基板上的正投影將所述反射圖形覆蓋；

其中，所述背光源發(fā)射出的光線在所述反射圖形與所述反射片之間反射后，能夠通過(guò)所述黑矩陣圖形的開(kāi)口區(qū)域從所述彩膜基板射出；

所述反射圖形包括金屬反射圖形，所述陣列基板還包括金屬圖形，所述反射圖形與所述金屬圖形位于同一層，且所述反射圖形與所述金屬圖形通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成；

所述金屬圖形包括源漏極金屬圖形，所述源漏極金屬圖形包括源極和漏極，且所述源極包括延伸圖形，所述反射圖形包括空白反射圖形和所述延伸圖形；

所述陣列基板還包括：柵極金屬圖形和公共電極線金屬圖形，所述空白反射圖形在所述第一襯底基板上的正投影位于所述柵極金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影與所述公共電極線金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影之間。

2.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，所述方法包括：

將陣列基板和彩膜基板對(duì)盒成型，得到顯示面板，所述陣列基板包括第一襯底基板以及形成在所述第一襯底基板靠近所述彩膜基板的一側(cè)的反射圖形，所述彩膜基板包括第二襯底基板以及形成在所述第二襯底基板靠近所述陣列基板的一側(cè)的黑矩陣圖形，所述黑矩陣圖形在所述陣列基板上的正投影將所述反射圖形覆蓋；

形成背光模組，所述背光模組包括背光源和反射片；

將所述背光模組設(shè)置在所述顯示面板的陣列基板所在側(cè)，使所述背光源位于所述反射片與所述陣列基板之間；

其中，所述背光源發(fā)射出的光線在所述反射圖形與所述反射片之間反射后，能夠通過(guò)所述黑矩陣圖形的開(kāi)口區(qū)域從所述彩膜基板射出；

所述反射圖形包括金屬反射圖形，所述陣列基板還包括金屬圖形，形成陣列基板，包括：

在所述第一襯底基板上形成金屬膜層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝對(duì)所述金屬膜層進(jìn)行處理，得到第一金屬圖形層，所述第一金屬圖形層包括所述反射圖形和所述金屬圖形；

所述金屬圖形包括源漏極金屬圖形，所述陣列基板還包括：柵極金屬圖形和公共電極線金屬圖形，形成陣列基板，包括：

在所述第一襯底基板上形成第二金屬圖形層，所述第二金屬圖形層包括柵極金屬圖形和公共電極線金屬圖形；

在形成有所述第二金屬圖形層的第一襯底基板上形成所述第一金屬圖形層，所述第一金屬圖形層包括所述反射圖形和所述源漏極金屬圖形，所述源漏極金屬圖形包括源極和漏極，所述源極包括延伸圖形，所述反射圖形包括空白反射圖形和所述延伸圖形，所述空白反射圖形在所述第一襯底基板上的正投影位于所述柵極金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影與所述公共電極線金屬圖形在所述第一襯底基板上的正投影之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述將陣列基板和彩膜基板對(duì)盒成型之前，所述方法還包括：分別形成所述陣列基板和所述彩膜基板。