[發(fā)明專利]一種利用稀土尾砂制備超平拋釉陶瓷磚的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710075825.3
• 申請日: 2017-02-13
• 公開（公告）號: CN106747296B
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 余峰;陳婧;譚麗;萬萍;程磊
• 申請（專利權(quán)）人: 景德鎮(zhèn)陶瓷大學(xué)
• 主分類號: C04B33/13
• 分類號: C04B33/13;C04B33/132;C04B33/34;C03C8/00;C03C8/02;C03C8/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明公開了一種利用稀土尾砂制備超平拋釉陶瓷磚的方法，通過采用雙層坯體和合理的坯體配方及顆粒級配最大限度的將稀土尾砂作為了坯體的主要生產(chǎn)原料，同時(shí)通過提高底釉層的始熔溫度可盡量排除了坯體中的氣體，并且在面釉層中采用耐磨熔塊釉既降低了釉面的熔融溫度又保證了釉面的耐磨硬度，最后采用了高溫保溫的方式用于提升磚體的強(qiáng)度和釉面的平整度。本發(fā)明以稀土尾砂為主要原料和耐磨熔塊釉，有效實(shí)現(xiàn)了廢棄物的資源化利用，大幅降低了燒成溫度，縮短了燒成周期，顯著降低了生產(chǎn)成本，因此具有廣闊的市場前景。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于無機(jī)非金屬材料（陶瓷）領(lǐng)域，具體涉及一種利用稀土尾砂制備超平拋釉陶瓷磚的方法。

背景技術(shù)

全拋釉陶瓷磚是傳統(tǒng)拋光磚在表層施釉后拋光的產(chǎn)物，與傳統(tǒng)拋光磚相比，全拋釉陶瓷磚產(chǎn)品不僅具有良好的抗污性，而且在花色上更為豐富，瓷磚高溫?zé)坪螅哂谢y色彩鮮艷，花色品種多樣，紋理自然等特點(diǎn)。自從2010年噴墨印刷技術(shù)和鏡面全拋工藝在建筑陶瓷生產(chǎn)中廣泛使用后，全拋釉陶瓷磚的性能得到完美升級，產(chǎn)品集合了拋光磚、仿古磚、瓷片三種產(chǎn)品的優(yōu)勢，具備了拋光磚的光澤度、瓷質(zhì)硬度，同時(shí)也擁有仿古磚的釉面高仿效果，以及瓷片釉面豐富的視覺效果。但是由于目前拋釉磚還是會存在發(fā)色不好、氣泡多、光澤度欠佳的問題，這些問題已滿足不了消費(fèi)者的需求。同時(shí)目前我國稀土尾砂存在日益增多現(xiàn)象，造成了水土流失和環(huán)境污染，因此如何合理利用稀土尾砂也成為了比較緊迫的社會問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種表面平整、光亮、硬度高的利用稀土尾砂制備超平拋釉陶瓷磚的方法。

為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種利用稀土尾砂制備超平拋釉陶瓷磚的方法，其特征在于包括如下步驟：

（1）坯體底層粉料的制備：

所述坯體底層粉料組成的質(zhì)量百分比為：稀土尾砂50～55%、高嶺土10～20%、鈉長石10～15%、方解石10～15％、硅灰石10～15％；

所述坯體底層粉料的制備工序?yàn)椋合葘⑾⊥廖采敖?jīng)過破碎、磨碎、酸洗后過120目篩，篩余為0.3%，然后再按坯體底層粉料配方稱量原料，混合均勻后裝入球磨設(shè)備內(nèi)球磨，出磨漿料導(dǎo)入干燥塔進(jìn)行干燥，制成坯體底層粉料備用；

（2）坯體面層粉料的制備：

所述坯體面層粉料組成的質(zhì)量百分比為：稀土尾砂15～25%、高嶺土30～40%、鉀長石15～20%、方解石10～15％、硅灰石20～30％；

所述坯體面層粉料的制備工序?yàn)椋合葘⑾⊥廖采敖?jīng)過破碎、磨碎、酸洗后過200目篩，篩余為0.2%，然后再按坯體面層粉料配方稱量原料，混合均勻后裝入球磨設(shè)備內(nèi)球磨，出磨漿料導(dǎo)入干燥塔進(jìn)行干燥，制成坯體面層粉料備用；

（3）底釉層原料的制備：

所述底釉層原料組成的質(zhì)量百分比為：石英30～40％、石灰石15～20％、燒滑石15～20％、氧化鋁15～20％、鈉長石15～25％；

所述底釉層原料的制備工序?yàn)椋喊吹子詫优浞椒Q量原料，混合均勻后裝入球磨設(shè)備內(nèi)球磨，出磨漿料過250目篩后攪拌均勻，制成底釉層原料備用；

（4）面釉層原料的制備：

所述面釉層原料組成的質(zhì)量百分比為：石英10～15％、煅燒高嶺土15～25％、燒滑石15～20％、氧化鋁15～20％、鉀長石15～25％、熔塊10～15％；

熔塊的化學(xué)重量百分組成為：Na₂O 10％、CaO 20％、ZrSiO₄ 25％、Al₂O₃15％、SiO₂10％、B₂O₃ 20％；