[發(fā)明專利]電子元件及其制法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710075566.4
• 申請(qǐng)日: 2017-02-13
• 公開（公告）號(hào): CN108346564B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳培領(lǐng);林偉勝;江連成;朱育德
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 矽品精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/268
• 分類號(hào): H01L21/268;H01L21/82
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

1.一種電子元件的制法，其特征為，該制法包括：

提供一具有相對(duì)的第一表面與第二表面的基板，其中，該基板包含有多個(gè)電子元件與布設(shè)于該多個(gè)電子元件之間的多個(gè)區(qū)隔部；

自該基板的第一表面形成未貫穿該基板的溝槽于該區(qū)隔部上；

對(duì)應(yīng)該多個(gè)區(qū)隔部位置進(jìn)行隱形切割，其中，該隱形切割是于單一該區(qū)隔部中形成多個(gè)隱形切割路徑，且至少二該隱形切割路徑的長(zhǎng)度不相同，該隱形切割路徑的長(zhǎng)度大小對(duì)應(yīng)其距離該第一表面遠(yuǎn)近的位置，且該隱形切割路徑于靠近該第一表面的長(zhǎng)度小于該隱形切割路徑遠(yuǎn)離該第一表面的長(zhǎng)度；以及

沿該多個(gè)區(qū)隔部分離各該電子元件，該電子元件具有對(duì)應(yīng)的作用面與非作用面，以及鄰接該作用面與非作用面的側(cè)面，且該作用面對(duì)應(yīng)該基板的第一表面，該非作用面對(duì)應(yīng)該基板的第二表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子元件的制法，其特征為，至少二該電子元件的尺寸不同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子元件的制法，其特征為，該多個(gè)區(qū)隔部的布設(shè)呈T形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子元件的制法，其特征為，該側(cè)面包含有相鄰接的光滑區(qū)域與粗糙區(qū)域。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子元件的制法，其特征為，該粗糙區(qū)域呈現(xiàn)該多個(gè)隱形切割路徑的痕跡，而該光滑區(qū)域并未形成有該隱形切割路徑的痕跡。

6.一種電子元件，其具有相對(duì)的作用面與非作用面及至少一鄰接該作用面與非作用面的側(cè)面，且至少一該側(cè)面定義有相鄰接的光滑區(qū)域與粗糙區(qū)域，其中，該粗糙區(qū)域呈現(xiàn)隱形切割路徑的痕跡，該隱形切割路徑的長(zhǎng)度大小對(duì)應(yīng)其距離該作用面遠(yuǎn)近的位置，且該隱形切割路徑于靠近該作用面的長(zhǎng)度小于該隱形切割路徑遠(yuǎn)離該作用面的長(zhǎng)度，而該光滑區(qū)域未形成有該隱形切割路徑的痕跡，且該光滑區(qū)域鄰接該作用面而未鄰接該非作用面。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子元件，其特征為，該粗糙區(qū)域呈梯形輪廓。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子元件，其特征為，該光滑區(qū)域呈三角形輪廓。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電子元件，其特征為，該粗糙區(qū)域鄰接該作用面與該非作用面。