[發明專利]一種蝕刻液濃度調整方法

在審

• 申請號: 201710074794.X
• 申請日: 2017-02-12
• 公開（公告）號: CN108427442A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 韋仁軍;袁薇;張久軍;馬芳
• 申請（專利權）人: 蘇州耀群凈化科技有限公司
• 主分類號: G05D11/02
• 分類號: G05D11/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明公開了一種蝕刻液濃度調整方法，包括步驟1：對于進行蝕刻液使用后的液體進行回收，得到回收液；步驟2：對回收液中的所有添加物使用濃度計進行濃度檢測，得到各個添加物的濃度；步驟3：對回收液的體積使用液位計進行檢測，得到回收液的體積；步驟4：對回收液添加含有各個添加物的調整溶液，各個添加物的溶劑相同，得到目標蝕刻液，本發明在使用蝕刻液后添加調整溶液，通過控制調整溶液的量，實現恢復蝕刻液濃度，使蝕刻液得到循環利用，減少污染，降低成本，而且添加的調整溶液的量很小。

技術領域

本發明涉及蝕刻行業，具體是一種蝕刻液濃度調整方法。

背景技術

當前蝕刻行業中所使用的蝕刻液大多是多種質物的混合液。蝕刻過程中隨時間推移，蝕刻液中的某些物質濃度會下不同程度的下降，并最終導致蝕刻率下降。當蝕刻率下降到一定程度時，蝕刻液就不能再使用了。蝕刻液本身的特性就是高腐蝕性，甚至是劇毒的，使用后的蝕刻液不能直排放，否則會造成嚴重的污染。目前對使用后的蝕刻液處理方法一般有兩種，一種是送到專業處理廠進行無害化處理，另一種是由專業化學品供應廠回收，以上兩種都會產生額處的費用，增加了企業成本。

為了降低企業成本及減少環境污染，蝕刻液循環利用成為當務之急。

發明內容

本發明目的是提供一種蝕刻液濃度調整方法，在使用蝕刻液后，添加調整溶液，通過控制調整溶液的量，實現恢復蝕刻液濃度，使蝕刻液得到循環利用，減少污染，降低成本。

為了解決上述技術問題，本發明采用的技術方案是：

一種蝕刻液濃度調整方法，包括以下步驟：

步驟1：對于進行蝕刻液使用后的液體進行回收，得到回收液；

步驟2：對回收液中的所有添加物使用濃度計進行濃度檢測，得到各個添加物的濃度；

步驟3：對回收液的體積使用液位計進行檢測，得到回收液的體積；

步驟4：對回收液添加含有各個添加物的調整溶液，各個添加物的溶劑相同，得到目標蝕刻液；

進一步的，回收液中含有W、X、Y三種物質，經過檢測后，回收液中W、X、Y三種物質的濃度分別為Cw1、Cx1、Cy1，回收液的體積為V1，回收液通過添加W、X、Y后的目標濃度分別為：Cw2、Cx2、Cy2，通過調整后的蝕刻液目標體積為V2，三種調整溶液中W、X、Y三種物質的濃度分別為Cw0、Cx0、Cy0，調整溶液的溶劑均為Z，三種調整溶液W、X、Y及溶劑Z的密度為ρw、ρx、ρy、ρz，回收液的重量為M1,目標蝕刻液的重量為M2,

M1＝V1/[1-Cw1(1-ρw)/Cw0*ρw-Cx1(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy1(1-ρy)/Cy0*ρy]

M2=V2/[1–Cw2(1-ρw)/Cw0*ρw–Cx2(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy2(1-ρy)/Cy0*ρy]

W物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cw2 － M1* Cw1；

X物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cx2 － M1* Cx1；

Y物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cy2 － M1* Cy1；

進一步的，在使用流量計添加W、X、Y時，各個添加物的體積為：

添加物W添加體積＝（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw；