[發明專利]一種蝕刻液濃度調整方法

在審

• 申請號: 201710074794.X
• 申請日: 2017-02-12
• 公開（公告）號: CN108427442A
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 韋仁軍;袁薇;張久軍;馬芳
• 申請（專利權）人: 蘇州耀群凈化科技有限公司
• 主分類號: G05D11/02
• 分類號: G05D11/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種蝕刻液濃度調整方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：對于進行蝕刻液使用后的液體進行回收，得到回收液；

步驟2：對回收液中的所有添加物使用濃度計進行濃度檢測，得到各個添加物的濃度；

步驟3：對回收液的體積使用液位計進行檢測，得到回收液的體積；

步驟4：對回收液添加含有各個添加物的調整溶液，各個添加物的溶劑相同，得到目標蝕刻液。

2.根據權利要求1所述一種蝕刻液濃度調整方法，其特征在于,回收液中含有W、X、Y三種物質，經過檢測后，回收液中W、X、Y三種物質的濃度分別為Cw1、Cx1、Cy1，回收液的體積為V1，回收液通過添加W、X、Y后的目標濃度分別為：Cw2、Cx2、Cy2，通過調整后的蝕刻液目標體積為V2，三種調整溶液中W、X、Y三種物質的濃度分別為Cw0、Cx0、Cy0，調整溶液的溶劑均為Z，三種調整溶液W、X、Y及溶劑Z的密度為ρw、ρx、ρy、ρz，回收液的重量為M1,目標蝕刻液的重量為M2,

M1＝V1/[1-Cw1(1-ρw)/Cw0*ρw-Cx1(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy1(1-ρy)/Cy0*ρy]

M2=V2/[1–Cw2(1-ρw)/Cw0*ρw–Cx2(1-ρx)/Cx0*ρx-Cy2(1-ρy)/Cy0*ρy]

W物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cw2 － M1* Cw1；

X物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cx2 － M1* Cx1；

Y物質添加量＝添加后溶液中W物質含量－添加前溶液中W物質含量

＝M2* Cy2 － M1* Cy1。

3.根據權利要求2所述一種蝕刻液濃度調整方法，其特征在于，在使用流量計添加W、X、Y時，各個添加物的體積為：

添加物W添加體積＝（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw；

添加物X添加體積＝（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx；

添加物Y添加體積＝（M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρy；

添加的溶劑Z的體積＝V2－V1－（M2* Cw2 － M1* Cw1）/ Cw0*ρw

－（M2* Cx2 － M1* Cx1）/ Cx0*ρx － （M2* Cy2 － M1* Cy1）/ Cy0*ρ。

4.根據權利要求3所述一種蝕刻液濃度調整方法，其特征在于，利用逼近法計算，當V2的值變大到一定值時使所有添加量大于等于0，這時的V2是使添加物的添加量為最小的值，而此時的添加量為最小添加量。

5.根據權利要求1所述一種蝕刻液濃度調整方法，其特征在于, 調整溶液為單物質溶液。