[發(fā)明專(zhuān)利]基于CH3NH3PbI3材料的P型雙向HHET器件及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710074139.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-02-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN106876489B | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 賈仁需;劉銀濤;汪鈺成;龐體強(qiáng);張玉明 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西安電子科技大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L31/0216 | 分類(lèi)號(hào): | H01L31/0216;H01L31/0264;H01L31/18 |
| 代理公司: | 西安嘉思特知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 劉長(zhǎng)春 |
| 地址: | 710071 陜西省*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 ch3nh3pbi3 材料 雙向 hhet 器件 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種基于CH3NH3PbI3材料的P型雙向HHET器件及其制備方法。該方法包括:在選取的襯底材料表面制作FTO導(dǎo)電玻璃;在所述FTO導(dǎo)電玻璃表面制作第一光吸收層;在所述第一光吸收層表面制作第一空穴傳輸層;在所述第一空穴傳輸層表面制作源漏電極;在整個(gè)襯底表面制作第二空穴傳輸層;在所述第二空穴傳輸層表面制備第二光吸收層;在所述第二光吸收層表面制作柵電極,最終形成所述雙向HHET器件。本發(fā)明通過(guò)采用對(duì)稱(chēng)的光吸收層,能吸收更多的光產(chǎn)生光生載流子,并采用在透明的藍(lán)寶石生長(zhǎng)透明的導(dǎo)電玻璃作為底部柵電極,能實(shí)現(xiàn)上下光照都能照射到光吸收層,且采用由CH3NH3PbI3向溝道提供大量的空穴,提高遷移率高,增強(qiáng)傳輸特性和增加光電轉(zhuǎn)換效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于集成電路技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于CH3NH3PbI3材料的 P型雙向HHET器件及其制備方法。
背景技術(shù)
隨著電子技術(shù)的蓬勃發(fā)展,半導(dǎo)體集成電路對(duì)社會(huì)發(fā)展和國(guó)民經(jīng)濟(jì)所起的作用越來(lái)越大。而其中市場(chǎng)對(duì)光電高速器件的需求與日俱增,并對(duì)器件的性能不斷提出更高更細(xì)致的要求。為尋求突破,不管從工藝,材料還是結(jié)構(gòu)等方面的研究一直未有間斷。近年來(lái),隨著可見(jiàn)光無(wú)線通訊技術(shù)以及電路耦合技術(shù)的崛起,市場(chǎng)對(duì)可見(jiàn)光波段的光電高空穴遷移率晶體(High Hole Mobility Transistor,簡(jiǎn)稱(chēng)HHET)管提出了新的要求。
有機(jī)/無(wú)機(jī)鈣鈦礦(CH3NH3PbI3)的橫空出世,又給研究帶來(lái)了新的視角。有機(jī)/無(wú)機(jī)鈣鈦礦中的有機(jī)基團(tuán)和無(wú)機(jī)基團(tuán)的有序結(jié)合,得到了長(zhǎng)程有序的晶體結(jié)構(gòu),并兼具了有機(jī)和無(wú)機(jī)材料的優(yōu)點(diǎn)。無(wú)機(jī)組分的高遷移率賦予了雜化鈣鈦礦良好的電學(xué)特性;有機(jī)組分的自組裝和成膜特性,使得雜化鈣鈦礦薄膜的制備工藝簡(jiǎn)單而且低成本,也能夠在室溫下進(jìn)行。雜化鈣鈦礦本身高的光吸收系數(shù)也是雜化鈣鈦礦能夠在光電材料中應(yīng)用的資本。
傳統(tǒng)的無(wú)機(jī)HHET高空穴遷移率晶體管都是屬于電能到電能的轉(zhuǎn)換,并不能滿足對(duì)可見(jiàn)光波段的光電高空穴遷移率晶體管的需求。因此,如何利用CH3NH3PbI3材料的特性來(lái)制備P型光電HHET器件就變得極其重要。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題,本發(fā)明提供了一種基于 CH3NH3PbI3材料的N型雙向HHET器件及其制備方法。
本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例提供了一種基于CH3NH3PbI3材料的P型雙向 HHET器件的制備方法,包括:
在選取的襯底材料表面制作FTO導(dǎo)電玻璃;
在所述FTO導(dǎo)電玻璃表面制作第一光吸收層;
在所述第一光吸收層表面制作第一空穴傳輸層;
在所述第一空穴傳輸層表面制作源漏電極;
在整個(gè)襯底表面制作第二空穴傳輸層;
在所述第二空穴傳輸層表面制備第二光吸收層;
在所述第二光吸收層表面制作柵電極,最終形成所述雙向HHET器件。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中,在選取的襯底材料表面制作導(dǎo)電玻璃薄膜,包括:
選取Al2O3材料作為所述襯底材料;
在所述Al2O3材料表面制作所述FTO導(dǎo)電玻璃。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專(zhuān)門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專(zhuān)門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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