[發(fā)明專利]一種基于鋁鹽絡(luò)合物的氟化鈣單晶拋光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710070811.2 | 申請日： | 2017-02-09 |
| 公開（公告）號： | CN106826409A | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱杰;姬夢;王占山 | 申請（專利權(quán)）人： | 同濟大學(xué) |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B13/00;C09G1/02;C09G1/18;B08B3/12 |
| 代理公司： | 上海科盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 絡(luò)合物 氟化鈣 拋光 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種基于鋁鹽絡(luò)合物的氟化鈣單晶拋光方法，包括以下步驟：對氟化鈣單晶進行研磨處理；利用第一拋光液對研磨后的氟化鈣單晶進行拋光，并在拋光過程中以設(shè)定間隔時間對氟化鈣單晶進行超聲波清洗；第一拋光液為由摻有納米級鋁鹽、納米級氧化鉻和納米級氧化鐵的納米級二氧化硅拋光粉制成的堿性拋光液；利用第二拋光液在光學(xué)瀝青模上進行拋光。本發(fā)明采用在拋光液中加入鋁鹽等化合物的化學(xué)機械拋光方法對氟化鈣單晶進行拋光，少量鋁鹽和氧化鉻等在堿性條件下與氟化鈣單晶會產(chǎn)生絡(luò)合物，因而加速對氟化鈣單晶的拋光進程，從而進一步去除氟化鈣單晶表面損傷和亞表面損傷，獲得較光滑的晶體表面，使得氟化鈣單晶的加工效率高、產(chǎn)品質(zhì)量好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氟化鈣晶體加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種基于鋁鹽絡(luò)合物的氟化鈣單晶拋光方法。
背景技術(shù)
近幾年，單晶材料早就以其優(yōu)良的綜合性能占據(jù)了重要的地位，特別是一些高精度的、高質(zhì)量的人工單晶受到了各個方面研究學(xué)者的青睞，其中氟化鈣(Calciumfluoride，CaF
然而，氟化鈣單晶具有硬度低、易破碎、各向異性、較高的熱膨脹系數(shù)等特性，因此對氟化鈣的加工技術(shù)要求更加高，加工難度較大，要實現(xiàn)氟化鈣單晶的精密加工，傳統(tǒng)的晶體加工方法會使得氟化鈣單晶表面產(chǎn)生劃痕等表面和亞表面損傷，因此降低氟化鈣單晶表面的損傷就需要不斷提高氟化鈣單晶的加工水平。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種基于鋁鹽絡(luò)合物的化學(xué)機械拋光方法，減少氟化鈣單晶加工時產(chǎn)生的表面損傷和亞表面損傷，獲得質(zhì)量好、實用性高的氟化鈣單晶。
本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：
一種基于鋁鹽絡(luò)合物的氟化鈣單晶拋光方法，包括以下步驟：
1)對氟化鈣單晶進行研磨處理；
2)利用第一拋光液對研磨后的氟化鈣單晶進行拋光，并在拋光過程中以設(shè)定間隔時間對氟化鈣單晶進行超聲波清洗；
所述第一拋光液為由摻有納米級鋁鹽、納米級氧化鉻和納米級氧化鐵的納米級二氧化硅拋光粉制成的堿性拋光液；
3)利用第二拋光液在光學(xué)瀝青模上對氟化鈣單晶進行拋光，所述第二拋光液為無水乙醇和乙醚混合液。
進一步地，所述步驟1)具體為：
A、分別用302#和303#砂紙對氟化鈣單晶粗磨；
B、用1500#和2500#的鉆石研磨膏對氟化鈣單晶精磨；
C、用W1和W0.5的金剛石粉做磨料在聚胺樹脂拋光墊上對氟化鈣單晶再次進行精磨，同時采用離子水作為研磨液。
進一步地，所述第一拋光液中，納米級氯化鋁的質(zhì)量百分比小于2.5％，納米級氧化鉻的質(zhì)量百分比為0.1％，納米級氧化鐵的質(zhì)量百分比為0.2％。
進一步地，所述超聲波清洗具體為：采用頻率為30KHZ、40KHZ、50KHZ和80KHZ的不同超聲波相組合對氟化鈣單晶進行超聲波清洗。
進一步地，所述步驟3)中，光學(xué)瀝青模為加入有質(zhì)量百分比小于0.5％松香的55#瀝青模。
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