[發(fā)明專利]一種基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710070811.2 | 申請日： | 2017-02-09 |
| 公開（公告）號： | CN106826409A | 公開（公告）日： | 2017-06-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | 朱杰;姬夢;王占山 | 申請（專利權(quán)）人： | 同濟大學 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B13/00;C09G1/02;C09G1/18;B08B3/12 |
| 代理公司： | 上?？剖⒅R產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31225 | 代理人： | 翁惠瑜 |
| 地址： | 200092 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 基于 絡合物 氟化鈣 拋光 方法 | ||
1.一種基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)對氟化鈣單晶進行研磨處理；
2)利用第一拋光液對研磨后的氟化鈣單晶進行拋光，并在拋光過程中以設定間隔時間對氟化鈣單晶進行超聲波清洗；
所述第一拋光液為由摻有納米級鋁鹽、納米級氧化鉻和納米級氧化鐵的納米級二氧化硅拋光粉制成的堿性拋光液；
3)利用第二拋光液在光學瀝青模上對氟化鈣單晶進行拋光，所述第二拋光液為無水乙醇和乙醚混合液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，所述步驟1)具體為：
A、分別用302#和303#砂紙對氟化鈣單晶粗磨；
B、用1500#和2500#的鉆石研磨膏對氟化鈣單晶精磨；
C、用W1和W0.5的金剛石粉做磨料在聚胺樹脂拋光墊上對氟化鈣單晶再次進行研磨，同時采用離子水作為研磨液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，所述第一拋光液中，納米級氯化鋁的質(zhì)量百分比小于2.5％，納米級氧化鉻的質(zhì)量百分比為0.1％，納米級氧化鐵的質(zhì)量百分比為0.2％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，所述超聲波清洗具體為：采用頻率為30KHZ、40KHZ、50KHZ和80KHZ的不同超聲波相組合對氟化鈣單晶進行超聲波清洗。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，所述步驟3)中，光學瀝青模為加入有質(zhì)量百分比小于0.5％松香的55#瀝青模。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于鋁鹽絡合物的氟化鈣單晶拋光方法，其特征在于，拋光過程的溫度為20-21℃，濕度小于40％，第一拋光液的PH值為9-11。
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