[發(fā)明專利]一種基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710070646.0
• 申請日: 2017-02-09
• 公開（公告）號(hào): CN107086201B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 橋本光治
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社斯庫林集團(tuán)
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 李英艷;張永康

1.一種基板處理裝置，其包括：

腔體，該腔體具有底板，該底板具有隔開收納空間的下方的上表面；

基板保持單元，該基板保持單元被收納于所述腔體的收納空間，并載放于所述底板的上表面，并且用于保持基板；

升降部件，該升降部件在所述腔體的收納空間內(nèi)升降；

升降驅(qū)動(dòng)單元，該升降驅(qū)動(dòng)單元驅(qū)動(dòng)所述升降部件的升降，

并且，所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括：

驅(qū)動(dòng)源，該驅(qū)動(dòng)源配置在所述底板的下表面的上方；

升降頭，該升降頭與所述升降部件連接，并且在整體位于所述底板的下表面的上方的可移動(dòng)范圍內(nèi)，所述驅(qū)動(dòng)源使該升降頭上下移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述驅(qū)動(dòng)源被收納于所述腔體的收納空間內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，

所述驅(qū)動(dòng)源的整體配置于所述升降頭的可移動(dòng)范圍的側(cè)方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中，

所述驅(qū)動(dòng)源包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源使沿水平方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；

所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括旋轉(zhuǎn)傳遞單元，該旋轉(zhuǎn)傳遞單元通過將所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)傳遞給所述升降頭，從而使所述升降頭上下移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基板處理裝置，其中，

所述旋轉(zhuǎn)傳遞單元包括：

多個(gè)齒條，該多個(gè)齒條固定于所述升降頭并且上下排列；

齒輪，該齒輪被傳遞所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)并且與所述齒條相嚙合。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置，其中，

所述驅(qū)動(dòng)源包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源使沿上下方向延伸的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)；

所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括旋轉(zhuǎn)傳遞單元，該旋轉(zhuǎn)傳遞單元通過將所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)傳遞給所述升降頭，從而使所述升降頭上下移動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其中，

所述旋轉(zhuǎn)傳遞單元包括：

螺紋軸，該螺紋軸被傳遞所述旋轉(zhuǎn)軸的旋轉(zhuǎn)并且在上下方向延伸；

螺母，該螺母固定于所述升降頭并且與所述螺紋軸相螺合。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其中，

所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括引導(dǎo)所述升降頭的上下移動(dòng)的引導(dǎo)單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基板處理裝置，其中，

所述引導(dǎo)單元包括導(dǎo)向部件，該導(dǎo)向部件固定于所述腔體并且對所述升降頭進(jìn)行凹凸卡合而能滑動(dòng)。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，

所述升降部件包括包圍所述基板保持單元的保護(hù)件；

所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括使所述保護(hù)件升降的保護(hù)件升降驅(qū)動(dòng)單元。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，

所述升降部件包括遮擋板，該遮擋板與由所述基板保持單元保持的基板的上表面相對；

所述升降驅(qū)動(dòng)單元包括遮擋板升降驅(qū)動(dòng)單元，該遮擋板升降驅(qū)動(dòng)單元使所述遮擋板升降。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，

還包括隔離部件，該隔離部件將所述升降驅(qū)動(dòng)單元從所述腔體的收納空間內(nèi)的環(huán)境中隔離。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板處理裝置，其中，還包括：

螺旋狀的配線，該螺旋狀的配線連接于所述遮擋板并且能上下伸縮；

配線導(dǎo)向件，該配線導(dǎo)向件與所述遮擋板一起升降，并引導(dǎo)所述配線的伸縮；

隔離部件，該隔離部件將所述遮擋板升降驅(qū)動(dòng)單元從所述腔體的收納空間內(nèi)的環(huán)境中隔離，

并且，所述隔離部件包括波紋管，該波紋管能上下伸縮并且收納了所述配線和所述配線導(dǎo)向件。

14.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的基板處理裝置，其中，還包括：

流體供給噴嘴，該流體供給噴嘴向所述基板保持單元保持的基板供給流體；

噴嘴臂，該噴嘴臂使所述流體供給噴嘴水平移動(dòng)，

并且，所述升降驅(qū)動(dòng)單元配置在所述噴嘴臂的水平移動(dòng)范圍的正下方。