[發(fā)明專利]制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710065305.4
• 申請(qǐng)日: 2017-02-06
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107204341B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金基元;金成勛;孫在翼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L27/11582
• 分類號(hào): H01L27/11582;H01L27/11556
• 代理公司: 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 劉燦強(qiáng);田野

提供一種制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法，所述方法包括基于每個(gè)溝道孔和與其相鄰的隔離區(qū)之間的距離、多個(gè)溝道孔在布局中的形狀、多個(gè)溝道孔在布局中的坐標(biāo)中的至少一個(gè)，將包括在垂直存儲(chǔ)器裝置的布局中的多個(gè)溝道孔劃分為多種類型。識(shí)別連接到包括在布局中的多條位線中的每條位線的溝道孔的類型，以及基于針對(duì)每條位線確定的溝道孔的類型來(lái)確定多條位線的負(fù)載是否均衡。

本申請(qǐng)要求于2016年2月22日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2016-0020706號(hào)韓國(guó)專利申請(qǐng)的權(quán)益，該韓國(guó)專利申請(qǐng)的公開(kāi)通過(guò)引用全部包含于此。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及一種存儲(chǔ)器裝置，更具體地，涉及一種驗(yàn)證垂直存儲(chǔ)器裝置的布局的方法。

背景技術(shù)

存儲(chǔ)器裝置用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，并被劃分為易失性存儲(chǔ)器裝置或非易失性存儲(chǔ)器裝置。作為非易失性存儲(chǔ)器裝置的示例的閃存裝置可以用在移動(dòng)電話、數(shù)碼照相機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、便攜式計(jì)算機(jī)、臺(tái)式計(jì)算機(jī)和其它裝置中。最近，已經(jīng)開(kāi)發(fā)了垂直存儲(chǔ)器裝置以增大存儲(chǔ)容量并實(shí)現(xiàn)非易失性存儲(chǔ)器裝置的小型化。垂直存儲(chǔ)器裝置包括垂直堆疊在基底上的多個(gè)存儲(chǔ)器單元或多個(gè)存儲(chǔ)器單元陣列。在其中形成有具有多孔結(jié)構(gòu)的溝道孔的垂直存儲(chǔ)器裝置中，形成在溝道孔中的存儲(chǔ)器單元的特性可以根據(jù)每個(gè)溝道孔和與其相鄰的隔離區(qū)之間的距離而變化。

發(fā)明內(nèi)容

根據(jù)公開(kāi)的方面，提供一種驗(yàn)證垂直存儲(chǔ)器裝置的布局的方法，所述方法包括基于每個(gè)溝道孔和與其相鄰的隔離區(qū)之間的距離、多個(gè)溝道孔在布局中的形狀、多個(gè)溝道孔在布局中的坐標(biāo)中的至少一個(gè)，將包括在垂直存儲(chǔ)器裝置的布局中的多個(gè)溝道孔劃分為多種類型。識(shí)別連接到包括在布局中的多條位線中的每條位線的溝道孔的類型，以及基于針對(duì)每條位線識(shí)別的溝道孔的類型對(duì)多條位線的負(fù)載是否均衡作出結(jié)論。

根據(jù)公開(kāi)的另一方面，提供一種驗(yàn)證垂直存儲(chǔ)器裝置的布局的方法。方法包括測(cè)量在垂直存儲(chǔ)器裝置的布局中將多個(gè)溝道孔連接到多條位線中的每條位線的導(dǎo)電線的尺寸，以及基于針對(duì)每條位線測(cè)量的尺寸驗(yàn)證多條位線的負(fù)載是否均衡。

根據(jù)公開(kāi)的另一方面，提供一種制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法，所述方法包括：基于每個(gè)溝道孔和與其相鄰的隔離區(qū)之間的距離、多個(gè)溝道孔在布局中的形狀和所述多個(gè)溝道孔在布局中的坐標(biāo)中的至少一個(gè)，將垂直存儲(chǔ)器裝置的布局中的所述多個(gè)溝道孔劃分為多種類型；識(shí)別連接到布局中的多條位線中的每條位線的溝道孔的類型；基于針對(duì)每條位線識(shí)別的溝道孔的類型，驗(yàn)證所述多條位線的負(fù)載是否均衡；在驗(yàn)證到位線的負(fù)載均衡時(shí)，基于布局制造用于垂直存儲(chǔ)器裝置的蝕刻掩模；以及通過(guò)蝕刻已經(jīng)應(yīng)用了蝕刻掩模的多層器件來(lái)制造垂直存儲(chǔ)器裝置，其中，在所制造的垂直存儲(chǔ)器裝置內(nèi)的位線的負(fù)載是均衡的。

根據(jù)公開(kāi)的另一方面，提供一種制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法，所述方法包括：將垂直存儲(chǔ)器裝置的布局中的多個(gè)溝道孔連接到多條位線中的每條位線的導(dǎo)電線的尺寸進(jìn)行測(cè)量；基于針對(duì)每條位線測(cè)量的導(dǎo)電線的尺寸，驗(yàn)證所述多條位線的負(fù)載是否均衡；在驗(yàn)證了位線的負(fù)載均衡時(shí)，基于布局制造用于垂直存儲(chǔ)器裝置的蝕刻掩模；以及通過(guò)蝕刻已經(jīng)應(yīng)用了蝕刻掩模的多層器件來(lái)制造垂直存儲(chǔ)器裝置，其中，在制造的垂直存儲(chǔ)器裝置內(nèi)的位線的負(fù)載是均衡的。

根據(jù)公開(kāi)的另一方面，提供一種制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法。方法包括基于垂直存儲(chǔ)器裝置的布局，針對(duì)多條位線中的每條位線確定由溝道孔和將溝道孔連接到所述每條位線的導(dǎo)電跡線呈現(xiàn)的負(fù)載。確定每條位線呈現(xiàn)的負(fù)載是否與位線中的其它的位線呈現(xiàn)的負(fù)載相等。在確定了位線的負(fù)載相等時(shí)，基于布局制造用于垂直存儲(chǔ)器裝置的蝕刻掩模。通過(guò)對(duì)已經(jīng)應(yīng)用了蝕刻掩模的多層器件進(jìn)行蝕刻來(lái)制造垂直存儲(chǔ)器裝置。在所制造的垂直存儲(chǔ)器裝置內(nèi)呈現(xiàn)到每條位線的負(fù)載與在所制造的垂直存儲(chǔ)器裝置內(nèi)呈現(xiàn)到位線中的其它的位線的負(fù)載相等。

附圖說(shuō)明

通過(guò)下面結(jié)合附圖的詳細(xì)描述，將更清楚地理解公開(kāi)的實(shí)施例，在附圖中：

圖1是示出根據(jù)實(shí)施例的制造垂直存儲(chǔ)器裝置的方法的流程圖；