[發(fā)明專利]陣列基板及其制造方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710064612.0
• 申請日: 2017-02-04
• 公開（公告）號: CN107045237B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙娜;許徐飛;周如;石躍
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1333
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄;王衛(wèi)忠

本發(fā)明提供了一種陣列基板和一種制造陣列基板的方法。制造陣列基板的方法包括：在形成有薄膜晶體管的襯底基板上形成黑色矩陣和有機材料圖案，其中，采用同一個掩模來形成黑色矩陣和有機材料圖案，能夠降低了制造成本。此外，有機材料圖案層的引入增大了像素電極與柵極線和數(shù)據(jù)線之間的間距，從而使像素電極與柵極線和數(shù)據(jù)線之間的寄生電容減小，進而降低了液晶顯示器的顯示面板的功耗。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板和一種制造陣列基板的方法。

背景技術(shù)

在液晶顯示裝置(LCD)中，顯示面板主要由薄膜晶體管陣列基板(TFT)、彩膜(CF)基板以及配置于這兩個基板之間的液晶層(LC)所構(gòu)成，其工作原理是通過在兩個基板之間施加驅(qū)動電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉(zhuǎn)，以折射背光模組的光線，從而產(chǎn)生圖像。

通常，薄膜晶體管液晶顯示裝置(TFT-LCD)是由TFT陣列基板與CF基板對盒而形成的。在TFT位置的上方，液晶分子會由于層面不平整及缺乏電壓控制而出現(xiàn)雜亂的取向，因此需要在CF基板一側(cè)使用大塊面積的黑色矩陣進行遮擋。在現(xiàn)有技術(shù)的制備工藝中，由于陣列基板和彩膜基板在對盒工藝中不可避免地會存在對位偏差，因此在一定程度上影響到TFT-LCD的產(chǎn)品質(zhì)量。此外，當(dāng)對位偏差過大時，彩膜會發(fā)生錯位，而黑色矩陣等無法形成遮擋，從而會發(fā)生串色現(xiàn)象。由對位偏差導(dǎo)致的串色不良是一種嚴重的漏光現(xiàn)象，進而使得液晶無法正確地傳導(dǎo)顯示的圖像。

COA(color filter on array)技術(shù)是一種將彩色濾光層直接形成在陣列基板上的集成技術(shù)，其能夠有效解決液晶顯示裝置的對盒工藝中因?qū)ξ黄钤斐傻穆┕獾葐栴}，并能顯著提高顯示器的開口率。然而，在此技術(shù)中，仍存在著需要采用多個掩模進行圖案化并且液晶顯示器的顯示面板的功耗高的問題。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題中的至少一個，本發(fā)明提供了一種陣列基板和一種制造陣列基板的方法。

根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種制造陣列基板的方法，所述方法包括：在形成有薄膜晶體管的襯底基板上形成黑色矩陣和有機材料圖案，其中，采用同一個掩模來形成黑色矩陣和有機材料圖案。

在一個實施例中，采用同一個掩模來形成黑色矩陣和有機材料圖案的步驟可以包括：形成具有預(yù)定厚度的透明感光材料層，并利用灰階掩模將透明感光材料層進行曝光和顯影，以形成第一中間圖案；在第一中間圖案上形成表面平坦的黑色感光材料層，利用所述灰階掩模將黑色感光材料層進行曝光和顯影，以形成第二中間圖案；以及通過灰化工藝處理第一中間圖案和第二中間圖案，從而形成黑色矩陣和有機材料圖案。

在一個實施例中，形成第一中間圖案的步驟可以包括：利用所述灰階掩模將透明感光材料層進行曝光和顯影，以形成透明感光材料層的完全保留區(qū)、透明感光材料層的第一部分保留區(qū)、透明感光材料層的第二部分保留區(qū)和透明感光材料層的完全去除區(qū)，其中，所述第一中間圖案包括透明感光材料層的完全保留區(qū)、透明感光材料層的第一部分保留區(qū)和透明感光材料層的第二部分保留區(qū)。

在一個實施例中，形成第二中間圖案的步驟可以包括：利用所述灰階掩模將黑色感光材料層進行曝光和顯影，以形成黑色感光材料層的完全保留區(qū)、黑色感光材料層的第一部分保留區(qū)、黑色感光材料層的第二部分保留區(qū)和黑色感光材料層的完全去除區(qū)，其中，所述第二中間圖案包括黑色感光材料層的完全保留區(qū)、黑色感光材料層的第一部分保留區(qū)和黑色感光材料層的第二部分保留區(qū)。

在一個實施例中，第一中間圖案的透明感光材料層的完全保留區(qū)在襯底基板上的正投影與所述第二中間圖案的黑色感光材料層的完全保留區(qū)在襯底基板上的正投影不重合，第一中間圖案的透明感光材料層的第一部分保留區(qū)在襯底基板上的正投影與第二中間圖案的黑色感光材料層的第二部分保留區(qū)在襯底基板上的正投影重合，第一中間圖案的透明感光材料層的第二部分保留區(qū)在襯底基板上的正投影與第二中間圖案的黑色感光材料層的第一部分保留區(qū)在襯底基板上的正投影重合。