[發明專利]陣列基板及其制造方法

有效

• 申請號: 201710064612.0
• 申請日: 2017-02-04
• 公開（公告）號: CN107045237B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 趙娜;許徐飛;周如;石躍
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1333
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 闞梓瑄;王衛忠

1.一種制造陣列基板的方法，所述方法包括：在形成有薄膜晶體管的襯底基板上形成黑色矩陣和有機絕緣圖案，其中，采用同一個掩模來形成黑色矩陣和有機材料圖案，所述黑色矩陣和所述有機材料圖案同層設置，

其中，在襯底基板上形成黑色矩陣和有機材料圖案之前，所述方法還包括：形成薄膜晶體管，并形成鈍化層和色阻層；

在襯底基板上形成黑色矩陣和有機材料圖案之后，所述方法還包括形成像素電極，并在形成有像素電極的襯底基板上形成平坦化層，且在所述平坦化層上形成公共電極；

其中，采用同一個掩模來形成黑色矩陣和有機材料圖案的步驟包括：

形成具有預定厚度的透明感光材料層，并利用灰階掩模將透明感光材料層進行曝光和顯影，以形成第一中間圖案；

在第一中間圖案上形成表面平坦的黑色感光材料層，利用所述灰階掩模將黑色感光材料層進行曝光和顯影，以形成第二中間圖案；以及

通過灰化工藝處理第一中間圖案和第二中間圖案，從而形成黑色矩陣和有機材料圖案。

2.根據權利要求1所述的制造陣列基板的方法，其中，形成第一中間圖案的步驟包括：

利用所述灰階掩模將透明感光材料層進行曝光和顯影，以形成透明感光材料層的完全保留區、透明感光材料層的第一部分保留區、透明感光材料層的第二部分保留區和透明感光材料層的完全去除區，其中，所述第一中間圖案包括透明感光材料層的完全保留區、透明感光材料層的第一部分保留區和透明感光材料層的第二部分保留區。

3.根據權利要求1所述的制造陣列基板的方法，其中，形成第二中間圖案的步驟包括：

利用所述灰階掩模將黑色感光材料層進行曝光和顯影，以形成黑色感光材料層的完全保留區、黑色感光材料層的第一部分保留區、黑色感光材料層的第二部分保留區和黑色感光材料層的完全去除區，其中，所述第二中間圖案包括黑色感光材料層的完全保留區、黑色感光材料層的第一部分保留區和黑色感光材料層的第二部分保留區。

4.根據權利要求1-3中的任一項所述的制造陣列基板的方法，其中，第一中間圖案的透明感光材料層的完全保留區在襯底基板上的正投影與所述第二中間圖案的黑色感光材料層的完全保留區在襯底基板上的正投影不重合，第一中間圖案的透明感光材料層的第一部分保留區在襯底基板上的正投影與第二中間圖案的黑色感光材料層的第二部分保留區在襯底基板上的正投影重合，第一中間圖案的透明感光材料層的第二部分保留區在襯底基板上的正投影與第二中間圖案的黑色感光材料層的第一部分保留區在襯底基板上的正投影重合。

5.根據權利要求4所述的制造陣列基板的方法，其中，通過灰化工藝處理第一中間圖案和第二中間圖案的步驟包括：

完全去除第二中間圖案的黑色感光材料層的第一部分保留區以形成有機材料圖案，并部分地去除第二中間圖案的黑色感光材料層的完全保留區以形成黑色矩陣；以及

完全去除第一中間圖案的透明感光材料層的完全保留區、完全去除第一中間圖案的透明感光材料層的第一部分保留區和第二中間圖案的黑色感光材料層的第二部分保留區以形成黑色矩陣和有機材料圖案之間的過孔。

6.根據權利要求1所述的制造陣列基板的方法，其中，透明感光材料層為正性感光材料，黑色感光材料層為負性感光材料；或者，透明感光材料層為負性感光材料，黑色感光材料層為正性感光材料。

7.根據權利要求5所述的制造陣列基板的方法，在襯底基板上形成黑色矩陣和有機材料圖案之后，所述方法還包括形成像素電極，所述像素電極通過所述過孔與薄膜晶體管的漏極電連接。