[發明專利]基板清洗裝置及方法、基板處理裝置及方法

有效

• 申請號: 201710060632.0
• 申請日: 2017-01-25
• 公開（公告）號: CN107026109B
• 公開（公告）日: 2020-04-21
• 發明（設計）人: 西山耕二
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687;H01L21/02
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 向勇;董雅會

1.一種基板清洗裝置，對基板的背面進行清洗，其特征在于，

具有：

旋轉保持單元，保持基板且使所述基板旋轉，以及

清洗單元，對被所述旋轉保持單元保持的基板的背面進行清洗；

所述旋轉保持單元包括：

旋轉構件，被設置為能夠圍繞旋轉軸線旋轉，以及

多個保持構件，以能夠與基板的外周端部抵接來保持基板的方式設置在所述旋轉構件上；

所述清洗單元包括：

清洗用具，被設置為能夠通過研磨來除去基板的背面的異物，

移動裝置，使所述清洗用具一邊按壓被多個所述保持構件保持的基板的背面一邊移動，以及

反作用力產生部，為了在基板產生克服由所述清洗用具對基板的背面施加的負載的反作用力，在與基板的表面或背面垂直的方向上對基板施加力。

2.根據權利要求1所述的基板清洗裝置，其特征在于，

所述反作用力產生部包括以與基板的外周端部抵接的方式設置在所述旋轉構件上的多個抵接構件，

在所述清洗用具對基板的背面施加負載時，多個所述抵接構件在基板的外周端部產生克服所述負載的反作用力。

3.根據權利要求2所述的基板清洗裝置，其特征在于，

基板的外周端部具有被處理面側斜面部、背面側斜面部以及端面，

多個所述抵接構件中的各個抵接構件具有與基板的被處理面側斜面部抵接的抵接面。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述清洗單元還包括清洗刷，所述清洗刷進一步對通過所述清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面進行清洗。

5.根據權利要求1至3中任一項所述的基板清洗裝置，其特征在于，所述清洗單元還包括清洗液供給部，所述清洗液供給部向通過所述清洗用具清洗后或清洗中的基板的背面供給清洗液。

6.一種基板清洗裝置，對基板的背面進行清洗，其特征在于，

具有：

旋轉保持單元，保持基板且使所述基板旋轉，以及

清洗單元，對被所述旋轉保持單元保持的基板的背面進行清洗；

所述旋轉保持單元包括：

旋轉構件，被設置為能夠圍繞旋轉軸線旋轉，以及

多個保持構件，以能夠與基板的外周端部抵接來保持基板的方式設置在所述旋轉構件上；

所述清洗單元包括：

清洗用具，被設置為能夠通過研磨來除去基板的背面的異物，

移動裝置，使所述清洗用具一邊按壓被多個所述保持構件保持的基板的背面一邊移動，以及

反作用力產生部，在基板產生克服由所述清洗用具對基板的背面施加的負載的反作用力，

所述反作用力產生部包括以與基板的外周端部抵接的方式設置在所述旋轉構件上的多個抵接構件，

在所述清洗用具對基板的背面施加負載時，多個所述抵接構件在基板的外周端部產生克服所述負載的反作用力，

多個所述保持構件被設置為能夠在與基板的外周端部抵接來保持基板的基板保持狀態和與基板的外周端部分離的基板釋放狀態之間進行切換，

所述旋轉保持單元還包括使多個所述保持構件在所述基板保持狀態與所述基板釋放狀態之間切換的保持構件切換部，

多個所述保持構件中的各個保持構件隨著所述旋轉構件的旋轉以經過沿著基板的外周端部的第一區域以及第二區域的方式圍繞所述旋轉軸線旋轉，

在對基板的背面中除了周緣部以外的中心區域進行清洗時，所述保持構件切換部使多個所述保持構件成為所述基板保持狀態，并且所述移動裝置使所述清洗用具在基板的背面的中心區域移動，

在對基板的背面的周緣部進行清洗時，所述保持構件切換部在所述旋轉構件旋轉的過程中使多個所述保持構件中的處于所述第一區域的保持構件成為所述基板保持狀態，使多個所述保持構件中的處于所述第二區域的保持構件成為所述基板釋放狀態，并且所述移動裝置使所述清洗用具在基板的背面的周緣部且在所述第二區域移動。

7.根據權利要求6所述的基板清洗裝置，其特征在于，各抵接構件在與基板的外周端部抵接的狀態下配置在相鄰的各2個保持構件之間。