[發(fā)明專利]芯片封裝電極結(jié)構(gòu)以及使用該電極的芯片封裝結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710059168.3 | 申請日: | 2017-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN106783784A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 付猛 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞市阿甘半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/488 | 分類號: | H01L23/488;H01L23/49;H01L23/31 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 523808 廣東省東莞市松山湖高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 芯片 封裝 電極 結(jié)構(gòu) 以及 使用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電極,特別是涉及一種芯片封裝電極結(jié)構(gòu)以及使用該電極的芯片封裝結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
在功率芯片在應(yīng)用時一方面需要良好的散熱,另一方面在溫度上升及下降循環(huán)時由于散熱電極的熱膨脹系數(shù)與芯片不匹配時將會使得芯片產(chǎn)生開裂而失效。
傳統(tǒng)的芯片封裝在芯片的兩邊焊接有兩個銅電極,整體再采用陶瓷或塑封而成。由于銅的散熱及導(dǎo)電均較好,但其熱膨脹系數(shù)較高,在溫度循環(huán)(-40℃-85℃)或溫度沖擊等熱疲勞測試時很容易使芯片損傷。采用銅作為電極其散熱與溫度循環(huán)或溫度沖擊的性能不能夠兼容。因此,需要開發(fā)一種芯片封裝電極結(jié)構(gòu),防止在溫度循環(huán)或溫度沖擊等熱疲勞過程中芯片損傷而失效。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于芯片封裝的電極,以解決芯片在溫度循環(huán)或溫度沖擊等熱疲勞測試過程中被電極拉扯導(dǎo)致?lián)p傷的問題。
為實現(xiàn)以上目的,本發(fā)明提供一種芯片封裝電極結(jié)構(gòu),包括:
第一導(dǎo)電層,該第一導(dǎo)電層具有第一熱膨脹系數(shù);以及
膨脹抑制層,至少部分地覆蓋該第一導(dǎo)電層并用于抑制該第一導(dǎo)電層的膨脹,該膨脹抑制層具有第二膨脹系數(shù)并且該第二膨脹系數(shù)小于該第一熱膨脹系數(shù)。
進(jìn)一步,該第一膨脹系數(shù)的范圍為12×10-6-60×10-6/℃。
進(jìn)一步,該第二膨脹系數(shù)的范圍為0-12×10-6/℃。
進(jìn)一步,該膨脹抑制層覆蓋該導(dǎo)電層的整個上表面和/或下表面。
進(jìn)一步,該膨脹抑制層覆蓋該導(dǎo)電層的上表面的一部分和/或下表面的一部分。
進(jìn)一步,該膨脹抑制層覆蓋該導(dǎo)電層的上表面的周邊和/或下表面的周邊。
進(jìn)一步,該膨脹抑制層覆蓋該導(dǎo)電層的上表面的中心和四個角落,和/或覆蓋下表面的中心和四個角落。
進(jìn)一步,該第一導(dǎo)電層的材料為銅或含有銅的合金。
進(jìn)一步,該膨脹抑制層的材料為金屬化陶瓷、鐵鎳合金、鎢或鉬。
本發(fā)明還提供一種芯片封裝結(jié)構(gòu),包括:
芯片;以及
一個或多個與該芯片連接的如上面所述的電極,其中芯片與該第一導(dǎo)電層連接。
本發(fā)明的芯片封裝電極結(jié)構(gòu),具有第一導(dǎo)電層和膨脹抑制層,通過將膨脹系數(shù)低的膨脹抑制層覆蓋膨脹系數(shù)低的第一導(dǎo)電層,可以抑制第一導(dǎo)電層在溫度循環(huán)過程的膨脹速度,可以使整體的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)具有與芯片匹配的膨脹系數(shù),從而在溫度循環(huán)或溫度沖擊等熱疲勞試驗過程中不會將芯片拉扯而導(dǎo)致芯片損傷。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的實施例的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。
圖2是本發(fā)明的另一實施例的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)的剖面圖。
圖3是本發(fā)明的某些實施例的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖4是本發(fā)明的另一實施例的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)的俯視圖。
圖5是本發(fā)明的某些實施例的芯片封裝結(jié)構(gòu)的剖面圖。
具體實施方式
為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實施例,對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。
需要說明的是,在附圖或說明書描述中,相似或相同的特征都使用相同的標(biāo)號。
本文中提及的方位詞“頂面”、“底面”、“上表面”、“下表面”等,僅參考附圖的方向進(jìn)行描述,是為了技術(shù)人員更好地了解本發(fā)明中的各個特征的位置關(guān)系,僅僅作為說明目的,而不能理解為對本發(fā)明的限制。
參見圖1,在某些實施例中,本發(fā)明的芯片封裝電極結(jié)構(gòu),包括:第一導(dǎo)電層102和膨脹抑制層104。該第一導(dǎo)電層102具有第一熱膨脹系數(shù)。該膨脹抑制層104,至少部分地覆蓋該第一導(dǎo)電層102,該膨脹抑制層具有第二膨脹系數(shù)并且該第二膨脹系數(shù)小于該第一熱膨脹系數(shù),用于抑制該第一導(dǎo)電層的膨脹。優(yōu)選地,該膨脹抑制層覆蓋在第一導(dǎo)電層的上表面。
本發(fā)明的芯片封裝電極結(jié)構(gòu),具有第一導(dǎo)電層和膨脹抑制層,通過將膨脹系數(shù)低的膨脹抑制層覆蓋膨脹系數(shù)低的第一導(dǎo)電層,可以抑制第一導(dǎo)電層在溫度循環(huán)過程的膨脹速度,可以使整體的芯片封裝電極結(jié)構(gòu)具有與芯片匹配的膨脹系數(shù),從而在溫度循環(huán)過程中不會將芯片拉扯而導(dǎo)致芯片損傷。
在某些實施例中,第一導(dǎo)電層的第一膨脹系數(shù)的范圍為12×10-6-60×10-6/℃。在某些實施例中,膨脹抑制層的第二膨脹系數(shù)的范圍為0-12×10-6/℃。
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