[發明專利]探測方法與裝置

有效

• 申請號: 201710058648.8
• 申請日: 2017-01-23
• 公開（公告）號: CN106841242B
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發明（設計）人: 劉智慧;張政陽
• 申請（專利權）人: 劉智慧;張政陽
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01N23/06;G01V5/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張洋;黃健

本發明提供一種探測方法與裝置。該探測方法，包括：調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率；根據所述射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，對待檢測對象進行照射，獲得所述待檢測對象的不同檢測范圍對應的第一圖像，所述待檢測對象包括至少一個檢測范圍；根據每個所述第一圖像，獲得所述待檢測對象的目標照射圖像。本發明的技術方案，通過對待檢測對象的間歇照射，防止持續對待檢測對象進行照射造成的輻射量大的問題。

技術領域

本發明涉及安全檢測技術，尤其涉及一種探測方法與裝置。

背景技術

目前，很多場所使用射線對貨物進行安全檢查或者對物質進行內部探傷。這主要是利用了加速器和X安檢儀在不同物質上的穿透率不同，而衰減率不同來實現的。

目前X射線透射成像技術，測量的是穿過被檢測對象的X光子數目，X光被吸收的幾率反映了被檢測物質的密度信息。透射成像技術的檢測方法是通過工作人員對被檢測物質形狀和密度信息的解釋來進行的。即現有技術是使用固定能量的X射線持續照射待檢測對象體，獲得待檢測對象體的照射圖像，由于不同的待檢測對象體的X射線的穿透率不相同，根據待檢測對象體的照射圖像即可獲得待檢測對象體的材質等信息。

但是，現有技術在檢測過程中使用的射線裝置在最大能量下持續曝光，其對周圍環境的輻射比較嚴重，有可能造成安全事故。

發明內容

本發明實施例提供一種探測方法與裝置，用于解決現有的探測裝置在輻射檢測過程中射線對周圍環境的輻射量大的問題。

第一方面，本發明實施例提供一種探測方法，包括：

調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率；

根據所述射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，對待檢測對象進行照射，獲得所述待檢測對象的不同檢測范圍對應的第一圖像，所述待檢測對象包括至少一個檢測范圍；

根據每個所述第一圖像，獲得所述待檢測對象的目標照射圖像。

在第一方面的一種可能的實現方式中，所述調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，具體包括：

根據所述待檢測對象的體積，確定所述射線的單次照射范圍；

根據所述射線的單次照射范圍和所述待檢測對象的運動速度，確定所述射線的照射頻率。

在第一方面的另一種可能的實現方式中，所述方法還包括：

判斷所述第一圖像是否滿足預設條件；

若否，將所述第一圖像中不符合所述預設條件的部分作為新的照射范圍；

根據所述預設條件調整所述射線的照射能量，獲得新的照射能量；

采用所述新的照射能量照射所述新的照射范圍，獲得新的第一圖像。

在第一方面的另一種可能的實現方式中，所述預設條件包括目標陰影面積，判斷所述第一圖像是否滿足預設條件，具體包括：

解析所述第一圖像，獲取所述第一圖像的陰影面積；

判斷所述第一圖像的陰影面積是否小于或等于目標陰影面積。

在第一方面的另一種可能的實現方式中，探測裝置為安檢儀，所述調整射線的單次照射范圍，具體可以包括：

調整所述安檢儀中的電荷耦合元件CCD的排列方式，確定所述射線的單次照射范圍。

第二方面，本發明提供一種探測裝置，包括：

調整模塊，用于調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率；