[發明專利]探測方法與裝置

有效

• 申請號: 201710058648.8
• 申請日: 2017-01-23
• 公開（公告）號: CN106841242B
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發明（設計）人: 劉智慧;張政陽
• 申請（專利權）人: 劉智慧;張政陽
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01N23/06;G01V5/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 張洋;黃健

1.一種探測方法，其特征在于，包括：

調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率；

根據所述射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，對待檢測對象進行照射，獲得所述待檢測對象的不同檢測范圍對應的第一圖像，所述待檢測對象包括至少一個檢測范圍；

根據每個所述第一圖像，獲得所述待檢測對象的目標照射圖像；

所述調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，具體包括：

根據所述待檢測對象的體積，確定所述射線的單次照射范圍；

根據所述射線的單次照射范圍和所述待檢測對象的運動速度，確定所述射線的照射頻率。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

判斷所述第一圖像是否滿足預設條件；

若否，將所述第一圖像中不符合所述預設條件的部分作為新的照射范圍；

根據所述預設條件調整所述射線的照射能量，獲得新的照射能量；

采用所述新的照射能量照射所述新的照射范圍，獲得新的第一圖像。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述預設條件包括目標陰影面積，判斷所述第一圖像是否滿足預設條件，具體包括：

解析所述第一圖像，獲取所述第一圖像的陰影面積；

判斷所述第一圖像的陰影面積是否小于或等于目標陰影面積。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，探測裝置為安檢儀，所述調整射線的單次照射范圍，具體可以包括：

調整所述安檢儀中的電荷耦合元件CCD的排列方式，確定所述射線的單次照射范圍。

5.一種探測裝置，其特征在于，包括：

調整模塊，用于調整射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率；

檢測獲取模塊，用于根據所述射線的單次照射范圍和所述射線的照射頻率，對待檢測對象進行照射，獲得所述待檢測對象的不同檢測范圍對應的第一圖像；

獲取模塊，用于根據每個所述第一圖像，獲得所述待檢測對象的目標照射圖像；

所述調整模塊，具體用于根據所述待檢測對象的體積，確定所述射線的單次照射范圍，并根據所述射線的單次照射范圍和所述待檢測對象的運動速度，確定所述射線的照射頻率。

6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：判斷模塊，

所述判斷模塊，用于判斷所述第一圖像是否滿足預設條件；

所述檢測獲取模塊，還用于在所述判斷模塊判斷所述第一圖像不滿足預設條件時，將所述第一圖像中不符合預設條件的部分作為新的照射范圍，并根據所述預設條件調整所述射線的照射能量，獲取新的照射能量，采用所述新的照射能量照射所述新的照射范圍，獲得新的第一圖像。

7.根據權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述判斷模塊包括解析單元和判斷單元：

所述解析單元，用于解析所述第一圖像，獲取所述第一圖像的陰影面積；

所述判斷單元，用于判斷所述第一圖像的陰影面積是否小于或等于目標陰影面積。

8.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述探測裝置為安檢儀，所述調整模塊，還用于調整所述安檢儀中的電荷耦合元件CCD的排列方式，確定所述射線的單次照射范圍。