[發明專利]一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法

有效

• 申請號: 201710052011.8
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106707698B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 蔡志國;吳斌;張顯峰;朱俊偉;羅宜清;張興旺;魏亞飛
• 申請（專利權）人: 蘇州微影激光技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 黃良寶

1.一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，其特征在于：在直寫曝光設備的吸盤上加裝四個標準標記點，在曝光設備的運行工作時間超過預設時間后，通過曝光設備上的高精度相機CCD，分別抓取其中三個標記點的坐標，通過坐標點計算出直寫曝光設備X方向與Y方向的正交性誤差，根據正交性誤差自動計算出直寫曝光設備在X方向與Y方向的兩個補償系數，并自動實時監測以及校正曝光設備的正交性；

所述正交性誤差的計算步驟，具體如下：

1)在曝光設備的XY坐標系下，通過曝光設備上的CCD，抓取其中三個標記點的坐標分別記為P₁(X1，Y1),P₂(X2，Y2),P₃(X3，Y3)；

2)P₁與P₂之間的向量為P₂與P₃之間的向量為在X方向和Y方向的夾角為θ，其中為兩個向量的內積，為兩個向量的模的乘積；

3)直寫曝光設備X與Y方向的正交性誤差為|θ-90°|。

2.根據權利要求1所述的直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，其特征在于：曝光設備的實際坐標系為XY，標準直角坐標系為X ’ Y ’ ，在直寫曝光坐標系XY中的坐標為(X,Y)，轉換到標準直角坐標系X ’ Y ’ 下的坐標為(X ’ ,Y ’ )，其中X ’ ＝X，Y ’ ＝Y+tan(θ-90°)·X；根據上述轉換公式，自動將目標位置從曝光設備的實際坐標系XY轉換到標準直角坐標系X ’ Y ’ ，保證曝光設備的正交性。