[發明專利]一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法

有效

• 申請號: 201710052011.8
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106707698B
• 公開（公告）日: 2019-04-30
• 發明（設計）人: 蔡志國;吳斌;張顯峰;朱俊偉;羅宜清;張興旺;魏亞飛
• 申請（專利權）人: 蘇州微影激光技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 黃良寶

本發明提供了一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，涉及曝光機領域，在直寫曝光設備的吸盤上加裝四個標準標記點，在曝光設備的運行工作時間超過預設時間后，通過曝光設備上的高精度相機CCD，分別抓取其中三個標記點的坐標，通過坐標點計算出直寫曝光設備X方向與Y方向的正交性誤差，根據正交性誤差自動計算出直寫曝光設備在X方向與Y方向的兩個補償系數，并自動實時監測以及校正曝光設備的正交性。與現有技術相比，該正交性實時監測及校正方法，通過直接在直寫曝光設備吸盤上加裝標準標記點，不需要依賴于圖像精度很高的底片，自動實時監測以及校正直寫曝光設備的正交性，大大縮短設備維護時間，減少維護成本，并提高效率。

技術領域

本發明涉及曝光機領域，特別是一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法。

背景技術

目前直寫曝光設備，如果正交性發生了變化，會導致產品質量下降，甚至會出現產品曝光不良的結果；如果想重新校正設備的正交性，需要依賴于一個圖像精度很高的外部基準底片，并花費大量的時間去進行手動測量、數據的計算以及數據的修改，需要較長時間才能使直寫曝光設備恢復至正常生產狀態。

發明內容

針對上述問題，本發明提供了一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，自動實時監測以及校正直寫曝光設備的正交性，大大縮短設備維護時間，減少維護成本，并提高效率。

本發明采用的技術方案為：

一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，在直寫曝光設備的吸盤上加裝四個標準標記點，在曝光設備的運行工作時間超過預設時間后，通過曝光設備上的高精度相機CCD，分別抓取其中三個標記點的坐標，通過坐標點計算出直寫曝光設備X方向與Y方向的正交性誤差，根據正交性誤差自動計算出直寫曝光設備在X方向與Y方向的兩個補償系數，并自動實時監測以及校正曝光設備的正交性。

優選地，所述正交性誤差的計算步驟，具體如下：

1)在曝光設備的XY坐標系下，通過曝光設備上的CCD，抓取其中三個標記點的坐標分別記為P₁(X1，Y1),P₂(X2，Y2),P₃(X3，Y3)；

2)P₁與P₂之間的向量為P₂與P₃之間的向量為在X方向和Y方向的夾角為θ，其中為兩個向量的內積，為兩個向量的模的乘積；

3)直寫曝光設備X與Y方向的正交性誤差為|θ-90°|。

優選地，曝光設備的實際坐標系為XY，標準直角坐標系為X’Y’，在直寫曝光坐標系XY中的坐標為(X,Y)，轉換到標準直角坐標系X’Y’下的坐標為(X’,Y’)，其中X’＝X，Y’＝Y+tan(θ-90°)·X；根據上述轉換公式，自動將目標位置從曝光設備的實際坐標系XY轉換到標準直角坐標系X’Y’，保證曝光設備的正交性。

與現有技術相比，本發明的有益效果在于：本發明提供一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法，直接在直寫曝光設備上加裝標準標記點，不需要依賴于圖像精度很高的底片，自動實時監測以及校正直寫曝光設備的正交性，大大縮短設備維護時間，減少維護成本，并提高效率，可用于芯片制造、印刷電路板、掩膜板、平板顯示器、生物芯片、光學玻璃平板等襯底上印刷構圖等場合。

附圖說明

圖1為本發明提供的一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法中吸盤的示意圖；

圖2為本發明提供的一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法中在標準直角坐標系X’Y’中的四個標記點的示意圖；

圖3為本發明提供的一種直寫曝光設備的正交性實時監測及校正方法在實際坐標系XY中抓取的三個標記點的示意圖；