[發明專利]用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統

有效

• 申請號: 201710046530.3
• 申請日: 2017-01-19
• 公開（公告）號: CN106835257B
• 公開（公告）日: 2018-09-25
• 發明（設計）人: 吳文強
• 申請（專利權）人: 南京麥文環保設備工程有限責任公司
• 主分類號: C25D21/14
• 分類號: C25D21/14;C25D21/06
• 代理公司: 北京維正專利代理有限公司 11508
• 代理人: 黃勇

1.一種用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：包括銅粉輸料裝置、攪拌過濾裝置、溶液循環裝置、溶液內循環裝置，

所述銅粉輸料裝置，包括儲料桶(1)、用于抽取儲料桶(1)內氧化銅銅粉的真空上料機(11)、與真空上料機(11)連通的螺旋給料機(12)；

所述攪拌過濾裝置，包括輸入端(21)與螺旋給料機(12)連通的溶解槽(2)，所述溶解槽(2)內的下側設置有若干用于將溶解槽(2)內部隔離成若干溢流槽(25)的分隔板一(23)，所述分隔板一(23)與溶解槽(2)的頂部留有間隙；所述溶解槽(2)內的上側位于相鄰兩個分隔板一(23)之間的位置設置有分隔板二(24)，所述分隔板二(24)與溶解槽(2)的底部留有間隙，所述溶解槽(2)內設置有攪拌器(26)，所述分隔板一(23)、分隔板二(24)上位于間隙的一端均轉動連接有若干扇體(231)，相鄰所述扇體(231)的扇葉(232)的扭轉方向相反；

所述溶液循環裝置，包括用于將電鍍槽(7)內的溶液輸入到溶解槽(2)的輸入端(21)的進液管(28)、設置在溶解槽(2)遠離輸入端(21)一端用于將溶解槽(2)內溶液輸送至電鍍槽(7)內的出液管(27)；

所述溶液內循環裝置，包括每個溢流槽(25)的底部均設置有循環管(3)，所述循環管(3)上均設置有球閥(31)，若干所述循環管(3)相互連通。

2.根據權利要求1所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：所述螺旋給料機(12)包括料倉(121)、設置在料倉(121)下端出料口的送料管(122)，所述送料管(122)橫向設置且所述送料管(122)內設有螺紋桿(1221)，所述螺紋桿(1221)的一端由設置在送料管(122)上的伺服電機(1222)同軸驅動，另一端延伸出送料管(122)的出口，所述送料管(122)在出口的位置設有豎直向下延伸至溶解槽(2)的輸入端(21)的輸料管(1223)，所述輸料管(1223)上端設有進風口(12231)，所述輸料管(1223)在進風口(12231)的位置設有鼓風機(1224)。

3.根據權利要求2所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：所述循環管(3)上連接有液體泵(32)，所述溢流槽(25)的底部連接有濃度感應器(33)，所述溶解槽(2)上設置有用于控制液體泵(32)的PLC控制器(34)，所述濃度感應器(33)與PLC控制器(34)電連接。

4.根據權利要求3所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：所述溢流槽(25)的底部設置有排渣管(251)，所述排渣管(251)上設置有截止閥(252)，所述排渣管(251)遠離溢流槽(25)的一端設置有廢液清空站(253)。

5.根據權利要求4所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：靠近所述出液管(27)的分隔板一(23)與分隔板二(24)之間設有過濾板(4)，與所述過濾板(4)相鄰且位于過濾板(4)遠離出液管(27)的一側的分隔板一(23)的上端設有緩沖板(233)，靠近所述出液管(27)的分隔板二(24)上開設有凹槽(241)，所述緩沖板(233)傾斜向下設置并延伸至凹槽(241)內，且所述緩沖板(233)與凹槽(241)的槽底之間有空隙。

6.根據權利要求5所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：所述凹槽(241)為圓弧槽，所述凹槽(241)的下側壁與分隔板二(24)圓弧過渡。

7.根據權利要求6所述的用于鍍銅工藝的硫酸銅溶液全自動配制系統，其特征是：所述凹槽(241)的下側壁上設置有阻流板(242)，所述阻流板(242)遠離凹槽(241)的槽底傾斜向上設置。