[發明專利]一種制備親疏圖案的光刻方法

有效

• 申請號: 201710044839.9
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN107065444B
• 公開（公告）日: 2019-03-05
• 發明（設計）人: 朱艷青;徐剛;史繼富
• 申請（專利權）人: 中國科學院廣州能源研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001
• 代理人: 蔣歡妹;莫瑤江

1.一種制備親疏圖案的光刻方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：首先在基底上涂覆一層帶有圖案的圖案連接層，其次涂覆一層表面涂層，最后由紫外光或太陽光或可見光或紅外光進行照射，得到親疏圖案；所述的基底的材料選自玻璃、金屬、墻體、紙張、棉織物中的任一種；所述的圖案連接層為具有圖案的有機硅膠或硅氧烷；所述表面涂層為尺寸為10nm～10μm微納二氧化鈦顆粒或表面修飾有低表面能物質的微納二氧化鈦顆粒；所述的低表面能物質為氟硅烷或硅氧烷。

2.根據權利要求1所述的制備親疏圖案的光刻方法，其特征在于，所述的圖案連接層的圖案的制備方法為絲網印刷、點膠機或手動繪制。

3.根據權利要求1或2所述的制備親疏圖案的光刻方法，其特征在于，所述的低表面能物質為主鏈含碳原子數≥4的氟硅烷或硅氧烷。

4.根據權利要求3所述的制備親疏圖案的光刻方法，其特征在于，所述的低表面能物質為十三氟三乙氧基辛基硅烷、三乙氧基九氟己基硅烷。