[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710042098.0
• 申請日: 2017-01-20
• 公開（公告）號: CN106653776B
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 曹可;姜濤;楊成紹
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 羅瑞芝;陳源

本發(fā)明提供一種陣列基板及其制備方法和顯示裝置。該陣列基板包括襯底和設(shè)置在襯底上的晶體管，晶體管包括柵極和有源層；柵極的面對有源層的一側(cè)面上形成有光線吸收層，光線吸收層能對照射到其上的光線進行吸收。該陣列基板通過在柵極的面對有源層的一側(cè)面上形成光線吸收層，能夠?qū)⒄丈涞狡渖系谋彻夤饩€進行吸收，從而避免照射到有源層上的背光光線反射到柵極上之后，柵極將該部分光線再次反射到有源層，進而減少照射到有源層上的背光光線，以減少背光光線對晶體管的開關(guān)特性造成影響，最終確保晶體管的開關(guān)穩(wěn)定性和采用該陣列基板的顯示裝置的顯示效果和可信賴性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種陣列基板及其制備方法和顯示裝置。

背景技術(shù)

由于曝光設(shè)備的昂貴，曝光環(huán)節(jié)一直是液晶顯示屏制造中成本控制的重點。

為節(jié)省曝光成本，目前較多陣列基板的薄膜晶體管(TFT)制備工藝流程將有源層和源漏極用一次曝光做成，這種工藝方法節(jié)省了一道掩模(Mask)工藝，因此在節(jié)省生產(chǎn)節(jié)拍和曝光設(shè)備成本上有明顯的優(yōu)勢。

但是，這種工藝會導(dǎo)致有源層相對位于其下方的柵極其圖形伸出量過多，使得底部柵極無法完全遮擋背光源對有源層的照射，如圖1所示，進入到有源層22的背光光線會造成薄膜晶體管(TFT)開關(guān)特性的改變，使之在工作中不穩(wěn)定，影響液晶顯示器的顯示效果和可信賴性；于此同時，柵極21對從有源層22反射回來的背光光線會再次反射，背光光線重新回到有源層22，使得有源層22受到“二次照射”，這進一步增加了背光源光線對有源層22的不利影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，提供一種陣列基板及其制備方法和顯示裝置。該陣列基板通過在柵極面對有源層的一側(cè)面上形成光線吸收層，能夠?qū)⒄丈涞狡渖系谋彻夤饩€進行吸收，從而避免照射到有源層上的背光光線反射到柵極上之后，柵極將該部分光線再次反射到有源層，進而減少照射到有源層上的背光光線，以減少背光光線對晶體管的開關(guān)特性造成影響，最終確保晶體管的開關(guān)穩(wěn)定性和采用該陣列基板的顯示裝置的顯示效果和可信賴性。

本發(fā)明提供一種陣列基板，包括襯底和設(shè)置在所述襯底上的晶體管，所述晶體管包括柵極和有源層；所述柵極的面對所述有源層的一側(cè)面上形成有光線吸收層，所述光線吸收層能對照射到其上的光線進行吸收。

優(yōu)選地，所述柵極的材料包括銅；所述光線吸收層包括銅的氧化物的微晶粒和銅的硫化物的微晶粒；所述光線吸收層的表面呈凹凸不平狀。

優(yōu)選地，所述光線吸收層的顏色為黑色或黑灰色。

優(yōu)選地，所述光線吸收層的厚度為10-30nm。

優(yōu)選地，所述晶體管的源極和漏極同層設(shè)置，且分別位于所述有源層的同一側(cè)的相對兩端。

優(yōu)選地，所述柵極設(shè)置于所述有源層的上方或下方。

本發(fā)明還提供一種顯示裝置，包括上述陣列基板。

本發(fā)明還提供一種如上述陣列基板的制備方法，包括采用構(gòu)圖工藝在襯底上分別形成包括柵極的圖形和有源層的圖形的步驟，在形成所述柵極的圖形時，將所述柵極的圖形上的光刻膠灰化完畢后，繼續(xù)對所述柵極的圖形進行灰化工藝，以在所述柵極的圖形的面對所述有源層的一側(cè)面上形成光線吸收層。

優(yōu)選地，所述柵極的材料包括銅；對所述柵極的圖形的灰化工藝包括：在干刻設(shè)備中采用六氟化硫氣體和氧氣產(chǎn)生的等離子體對所述柵極的圖形區(qū)域進行刻蝕，以使所述柵極的圖形區(qū)域的表層材料反應(yīng)生成包括銅的氧化物的微晶粒和銅的硫化物的微晶粒。

優(yōu)選地，還包括形成包括柵線的圖形的步驟，所述柵線的圖形和所述柵極的圖形通過灰色調(diào)掩模工藝同時形成。