[發明專利]一種低內反射復合基材及其制造方法在審
| 申請號: | 201710026011.0 | 申請日: | 2017-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN106597590A | 公開(公告)日: | 2017-04-26 |
| 發明(設計)人: | 陳信源;何偉鋒;鐘濤 | 申請(專利權)人: | 廣州市佳禾光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/20 | 分類號: | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/26 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205 | 代理人: | 許飛 |
| 地址: | 510535 廣東省廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反射 復合 基材 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種低內反射的復合基材及其制造方法。
背景技術
光學元件,特別是成像用的光學元件,如光學鏡頭等,對光線的反射、透射有著特殊的要求,以獲得更好的成像效果。
通過在透明基材,如玻璃、藍寶石、塑料等表面進行鍍膜處理,可以有效的改善基材的光學性能,如提高其透射率,減少內反射,進而提高成像質量。
現有基材普遍采用的加工工藝采是先鍍膜然后再切割,切割好的基材再與其他元件進行組裝。但是組裝時因為其他元件四周反射雜光進入基材內造成成像質量問題,因此需要在基材四周印刷光學黑色涂料形成遮蔽層,以遮擋吸收其他元件反射的雜光。
在鍍膜層上設置遮蔽層會造成鍍膜結構的損壞,導致基材的內反射大幅升高,從而影響成像品質?,F有增設有遮蔽層的基材,其局部內反射率最高可達6%(420nm~680nm),對成像質量有著較大的影響。
開發出一種高質量,低成本的低內反射復合基材,具有非常實際的意義。
發明內容
本發明的目的在于提供一種低內反射的基材及其制造方法。
本發明所采取的技術方案是:
一種低內反射復合基材,復合基材的四周由下自上依次為透明基材層、遮蔽層和鍍膜層。
作為上述基材的進一步改進,透明基材層由玻璃、藍寶石或塑料制成。
作為上述基材的進一步改進,遮蔽層由光學黑色材料制成。
作為上述基材的進一步改進,光學黑色材料為光學黑色油墨。
一種低內反射復合基材的制造方法,包括在基材上指定區域涂布遮蔽材料,遮蔽材料固化后形成遮蔽層之后鍍膜,得到復合基材。
作為上述方法的進一步改進,涂覆高度吸收材料的方法選自印刷、噴涂、旋涂、點涂。
作為上述方法的進一步改進,鍍膜的方法選自真空鍍膜。
作為上述方法的進一步改進,真空鍍膜包括物理氣相沉積、化學氣相沉積。
本發明的有益效果是:
本發明的基材,既可以實現遮蔽層對光的過濾或吸收作用,又可以保持極低的內反射,與常規的鍍膜層上設置遮蔽層的基材相比,本發明基材的可以低至0.1%~0.2%(420nm~680nm)。
本發明基材的制造工藝簡單,與傳統的涂覆有遮蔽層的基材的制造工藝相比,工藝的復雜程度基本沒有增加,生產成本基本沒有增加,甚至有所降低。
附圖說明
圖1是本發明低內反射基材截面示意圖;
圖2是不同結構基材的內反射率檢測結果。
具體實施方式
一種低內反射復合基材,復合基材的四周由下自上依次為透明基材層、遮蔽層和鍍膜層。其截面示意圖如圖1所示,圖1中,1為基材層,2為遮蔽層,3為鍍膜層。
作為上述基材的進一步改進,透明基材層由玻璃、藍寶石或塑料制成。基材為本領域常用的基材,最為常見的為光學玻璃。
作為上述基材的進一步改進,遮蔽層由光學黑色材料制成。
作為上述基材的進一步改進,光學黑色材料為光學黑色油墨。
一種低內反射復合基材的制造方法,包括在基材上指定區域涂布遮蔽材料,遮蔽材料固化后形成遮蔽層之后鍍膜,得到復合基材。
作為上述方法的進一步改進,涂覆高度吸收材料的方法選自印刷、噴涂、旋涂、點涂。
作為上述方法的進一步改進,鍍膜的方法選自真空鍍膜。
作為上述方法的進一步改進,真空鍍膜包括物理氣相沉積、化學氣相沉積。
下面結合實施例,進一步說明本發明的技術方案。
實施例1
1)在玻璃基材指定區域涂布光學黑色油墨;
2)待油墨固化后,將基材移至真空鍍膜機進行鍍膜處理,得到帶遮蔽層的低內反射的基材。
實施例2
1)在藍寶石玻璃基材指定區域涂布光學黑色油墨;
2)待油墨固化后,對基材進行PVD鍍膜處理,得到帶遮蔽層的低內反射的基材。
實施例3
1)在玻璃基材指定區域涂布光學黑色油墨;
2)待油墨固化后,對基材進行CVD鍍膜處理,得到帶遮蔽層的低內反射的基材。
對比例1:
先將玻璃基材置于真空鍍膜機鍍膜,鍍膜之后在四周指定區域涂布光學黑色油墨,待油墨固化后得到處理完成的基材。
內反射檢測數據:
分別取實施例1和對比例1的成品,通過反射測量儀檢測基材具有遮蔽材料部分的內反射情況,檢測結果如圖2所示。
由檢測結果可知,對比例1的基材,具有較高的內反射率,420nm~680nm的波長下,內反射率最高可達6%,波動明顯,難以有效去除雜光,影響成像質量。而實施例1的基材中,內反射率在不同波長下一直維持在0.1~0.2%的低值范圍內,成像質量得到大幅提升。
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