[發明專利]一種低內反射復合基材及其制造方法在審
| 申請號： | 201710026011.0 | 申請日： | 2017-01-13 |
| 公開（公告）號： | CN106597590A | 公開（公告）日： | 2017-04-26 |
| 發明（設計）人： | 陳信源;何偉鋒;鐘濤 | 申請（專利權）人： | 廣州市佳禾光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20;G02B5/22;G02B5/26 |
| 代理公司： | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司44205 | 代理人： | 許飛 |
| 地址： | 510535 廣東省廣州*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反射 復合 基材 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種低內反射復合基材，其特征在于：復合基材的四周由下自上依次為透明基材層、遮蔽層和鍍膜層。
2.根據權利要求1所述的低內反射復合基材，其特征在于：透明基材層由玻璃、藍寶石或塑料制成。
3.根據權利要求1所述的低內反射復合基材，其特征在于：遮蔽層由光學黑色材料制成。
4.根據權利要求4所述的低內反射復合基材，其特征在于：光學黑色材料為光學黑色油墨。
5.一種低內反射復合基材的制造方法，包括在基材上指定區域涂布遮蔽材料，遮蔽材料固化后形成遮蔽層之后鍍膜，得到復合基材。
6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于：涂覆高度吸收材料的方法選自印刷、噴涂、旋涂、點涂。
7.根據權利要求5或6所述的方法，其特征在于：鍍膜的方法選自真空鍍膜。
8.根據權利要求7所述的方法，其特征在于：真空鍍膜包括物理氣相沉積、化學氣相沉積。
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