[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201710024600.5 | 申請日: | 2017-01-13 |
| 公開(公告)號: | CN106783889B | 公開(公告)日: | 2020-01-07 |
| 發明(設計)人: | 張俊;史高飛;周如;占建英 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L21/84;H01L21/027;G02F1/1362 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
本發明公開了一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置,所述顯示基板包括顯示區域和周邊區域,周邊區域設置有第一電極線,第一電極線上設置有絕緣層,絕緣層上對應第一電極線所在的位置設置有第一過孔,第一過孔中設置有接觸電極,絕緣層上設置有第二電極線,第二電極線通過接觸電極與第一電極線電連接。本發明提供的技術方案在第一電極線與第二電極線之間設置接觸電極,在對第二電極線進行刻蝕去除時接觸電極可以對第一電極線進行保護,使得刻蝕液不會對第一電極線進行破壞。因此,本發明提供的技術方案在不影響第一電極線與第二電極線進行搭接的前提之下,避免對第二電極線進行刻蝕去除時損傷第一電極線,從而節約了生產成本,提高了生產效率。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。
背景技術
薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,簡稱TFT-LCD)具有體積小、功耗低、無輻射、制造成本低等特點,在當前的平板顯示器市場占據了主導地位。隨著產品PPI的提高和邊框的減小,現有技術在顯示器的周邊區域通常使用絕緣層接觸孔來實現不同金屬層中信號線的搭接。然而,由于兩層信號線的材料相同或相近,且直接搭接,導致在后續工藝需要對其中一層金屬層刻蝕去除時,刻蝕液會侵蝕另一金屬層,從而對該金屬層造成損傷,甚者使得該金屬被完全剝離。
發明內容
為解決上述問題,本發明提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置,至少部分解決現有顯示基板的周邊區域,由于不同金屬層中信號線的材料相同或相近,且直接搭接,導致其中一層金屬層難以剝離的問題。
為此,本發明提供一種顯示基板,包括顯示區域和周邊區域,所述周邊區域設置有第一電極線,所述第一電極線上設置有絕緣層,所述絕緣層上對應所述第一電極線所在的位置設置有第一過孔,所述第一過孔中設置有接觸電極,所述絕緣層上設置有第二電極線,所述第二電極線通過所述接觸電極與所述第一電極線電連接。
可選的,所述接觸電極在所述顯示基板上的正投影至少覆蓋所述第一過孔的底部在所述襯底基板上的正投影。
可選的,所述接觸電極的材料包括金屬氧化物。
可選的,所述第二電極線上設置有鈍化層,所述鈍化層上設置有第二過孔,所述鈍化層上設置有公共電極,所述公共電極通過所述第二過孔與所述第二電極線連接。
本發明還提供一種顯示裝置,包括任一所述的顯示基板。
本發明還提供一種顯示基板的制備方法,包括:
在襯底基板上沉積第一金屬層;
通過一次構圖工藝在顯示區域形成柵極以及在周邊區域形成第一電極線;
沉積絕緣層;
通過構圖工藝在所述周邊區域的絕緣層上對應所述第一電極線所在的位置形成第一過孔;
沉積導電材料層;
通過一次構圖工藝在所述顯示區域形成像素電極以及在所述周邊區域的第一過孔中形成接觸電極;
沉積第二金屬層;
通過一次構圖工藝在所述顯示區域形成源漏極以及在所述周邊區域的絕緣層上形成第二電極線,所述第二電極線通過所述接觸電極與所述第一電極線電連接。
可選的,所述接觸電極的材料包括金屬氧化物。
可選的,所述通過構圖工藝在所述周邊區域的絕緣層上對應所述第一電極線所在的位置形成第一過孔的步驟之前包括:
通過構圖工藝在所述顯示區域形成半導體層。
可選的,還包括:
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





